平磨工艺制程分析方案.ppt

平磨工序制程分析报告 工程部 2010年08月09日 平磨简介 平磨工段 细磨 抛光A 抛光B 扫光 LP 周边扫光 周边抛光 边位 直身位 细磨工序 细磨设备： 16B细磨机 9B细磨机 细磨工具： 细磨粉（型号：W14 粒径约14μm） 环氧板 铸铁磨盘 加工方式： 机械物理加工 加工精度： 0.01mm 加工良率： 97% 目标良率：99% 16B细磨机 9B细磨机 扫光工序 扫光设备： 9B扫光机 扫光工具：抛光粉 赛钢轮 毛扫盘（猪毛） 加工方式：机械物理加工 加工良率：93% 目标良率：95% CNI---抛光设备 抛光设备：16B平磨机 抛光工具：稀土抛光粉（含氧化铈） 抛光皮（浸渍氧化铈的发泡氨基甲酸乙酯抛光盘） 抛光方式：机械、物理、化学综合作用 加工精度：0.01mm 加工良率：93% 目标良率：95% 氧化铈莫氏硬度为6，玻璃的5.5 抛光皮---棕皮 抛光盘—下盘 16B平磨机 抛光工序解析 抛光目的：去除细磨产生的的凹陷层和裂纹层（约10~15μm），使毛面变成透明、光亮的表面。 抛光原理：抛光粉悬浮液中的水与