《先进材料实验》讲义.pptVIP

补充要求 学生实验成绩由平时实验、现场答辩和实验报告3部分组成，现场答辩初步定于2014年1月6日下午，具体时间地点另行通知。每组准备5分钟ppt，现场抽出1个同学答辩。另外实验报告附加200-500字关于实验的心得体会。 薄膜生长方法 可大致分4种： 物理气相沉积（PVD） 化学气相沉积（CVD） 液相外延 （LPE） 湿化学方法 （WCM） 物理气相沉积：如溅射、蒸发、脉冲激光沉积（PLD）、分子束外延（MBE）等 化学气相沉积：目前常用的为金属有机物化学气相沉积（MOCVD），此外，能量增强CVD、超高真空CVD、原子层外延等也属于CVD的范畴 液相外延是一种从过冷饱和溶液中析出固相物质并沉积在单晶衬底上生成单晶薄膜的方法 湿化学方法有很多种，如溶胶-凝胶、喷雾热分解、液相电沉积等 磁控溅射技术 磁控溅射是一种应用最为广泛和成熟的技术 可以克服通常溅射方法速率低和基片温升过高的弱点，适于大面积薄膜制备。磁控溅射与IC平面器件工艺具有兼容性，对设备要求不高，生产成本较低 磁控溅射中的重要参数 溅射电流 ( 生长速率 ) 压强 ( 溅射粒子的最高能量 ) 靶材-衬底之间的距离 (多孔性、质地、晶体性） 反应气体混合比 ( 化学配比 ) 衬底温度 ( 晶体性、密度和均匀性 ) 衬底偏压 ( 薄膜结构和化学配比 ) 设备介绍 一个不锈钢真空室