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大面积薄膜刻蚀方法浅探及扫描式氩离子枪的初步尝试 （该项目获2006年第21届全国青少年科技创新大赛二等奖） 摘要 离子刻蚀是构造纳米结构的一种有效方法。在刻蚀过程中，高能惰性气体离子（如Ar、Xe等）轰击待刻样本指定区域的表面原子，由此创造纳米图形装置。为解决现有氩离子刻蚀系统有效刻蚀面积小（~9mm）的问题，本课题提出扫描式氩离子枪的构想，并讨论了制作该离子枪的方法。以此为基础，课题完成一台试验水平的扫描式氩离子枪，包括离子源、加速电场、会聚螺线管和扫描线圈组，且进行了初步测试，得到不同输入能量下的可控离子流（≤400μA）和相对较大的刻蚀面积（＞2cm）。课题的研究结果显示了在实际刻蚀中采用扫描式离子枪的可行性，并且有望通过进一步的改进真正实现其在纳米级样本准备中的实际刻蚀应用。 关键词 刻蚀 氩离子枪 扫描式 薄膜元件 1 引言 数字信息存储已成为现代文明目前的最大推进力量，也是信息时代最有前景的研究领域之一。对更高的信息存储密度以及更快的信息传输速度的需求促使了信息领域中纳米科技应用的发展。下个阶段电子元件的发展将进一步纳米化，并进入量子世界。 在纳米元件的构造中，氩离子刻蚀是一项已被广泛应用的工艺，其大致步骤为： 利用电子束/紫外线光刻制作衍膜 将面具覆于待刻样本上，暴露至高能Ar+离子流 丙酮（CH3COCH3）去除残余 在步骤