平板显示技术：第八章_场致发射.ppt

FED与CRT的比较 相同点：处于真空状态；靠电子轰击荧光粉发光，具有基本相同的荧光屏结构。 不同之处在于电子的发射和扫描方式。 CRT需藉偏转磁场控制电子枪射出的电子束在显示屏上进行扫描，阴极到阳极距离达到几十厘米。 FED的冷阴极为面发射源， 由百万多电子源直接激发荧光材料，阴阳极距离小于3mm，易于实现平板化和矩阵驱动。连同极板玻璃在内，器件厚度不过6－7mm。 CRT的加速电场电压通常在13?30kV之间；而FED一般加速电压小于10kV，为达到与CRT相当的亮度，需要较高的消耗电流。 * FED的三个基本工艺 * 8.3.2 FED技术难点 电子束发射技术（发射体表面几何形状，束流密度一致性，束流轨道等） 电子发射材料的起始电场越低越好 电子发射极密度需大于106A/cm2 每个发射极需均匀发射电子 在高真空、高电压下发射极维持稳定性与寿命 支撑间隔材料 真空密封技术 低压荧光粉技术 * 支撑间隔材料 工作在真空环境，平面型，需要抵抗大气压力 由于平整度和轻薄的要求，不能采用CRT常用的厚玻璃作为上下基板。 需要在上下基板间加上支撑结构。 要求：1，支撑体面积足够小，尺寸均匀； 2，具有一定的电阻率，同时又不能产生过大的漏电流（电荷积累和漏电的矛盾）； 3，足够的支撑强度； 4，放气量小 隔离支撑材料：