ICHQ3a(R2)介绍.pptVIP

Q3A(R2) Impurities in New Drug Substances Q3B(R2) Impurities in New Drug Products Q3C(R5) Impurities: Guideline for Residual Solvents Q3D Guideline for Elemental Impurities * 化学方面：包括对杂质的分类和鉴定、杂质生成、规范中杂质的检查项目以及对分析方法的简要讨论。 安全性方面：对用于安全性研究和临床研究的新原料药批次中不存在或含量很低的那些杂质的界定的指南。 * ICH Q3a(R2)新原料药中的杂质Impurities In New Drug Substances  2015.1.23 The International Conference on Harmonisation of Technical Requirements for Registration of Pharmaceuticals for Human Use (ICH) ICH是国际人用药注册技术协调会议，由美国、日本和欧盟的药品监督管理机构和行业协会组织发起的专门针对药品注册登记管理的国际性会议组织（类似WTO）。其成员有： 监督管理机构的： EMEA?? – European Union MHLW? – Japan FDA??? – US 制药行业组织的： EFPIA?? – Europe JPMA??? – Japan PHRMA? – US 目的：在新药研究和生产期间防止复制以保证质量、安全和效能，目前制订了40多个规范性文件，提出技术和管理要求，指导人用药的登记注册。其中Q3就是ICH制订的关于人用药的注册要求中关于杂质的技术要求。 ICH简介 1.1适用范围 适用于化学合成的新原料药（未在任何地区或成员国注册）。 不适用于临床研究期间所用的新原料药。 不涵盖生物／生物制品、肽、寡聚核苷酸。放射性药物、发酵和半合成产品、草药以及来源于动、植物的粗制品。 对其杂质的含量和界定的申报提供指导。 1.2对新原料药中的杂质从两个方面阐述 化学方面 杂质的分类、鉴定、检查方法等 安全性方面 杂质的界定 2.杂质的分类 2.1有机杂质：来源于生产过程或储存过程 起始物 副产物 中间体 降解产物 试剂、配位体、催化剂 通常是确定的或不确定的，挥发性的或不挥发性的 2.2无机杂质：来源于生产过程 试剂、配位体、催化剂 重金属或其他残留金属 无机盐 其他物质（例如：过滤介质、活性炭等） 产生于生产过程，一般是已知的和确定的 2.3残留溶剂：生产过程中使用的溶剂 生产过程中，使用的，通常是已知的，包括毒性，容易控制。 具体参见ICH Q3c 这里的杂质不包括： （1）外源性污染物（不应该存在于新原料药中，可以用GMP来控制）； （2）多晶型； （3）对映体杂质。 3.杂质的报告和控制说明 3.1有机杂质 对合成、精制、储存中最可能产生的杂质进行概述（杂质来源的分析） 汇总实验结果，对比分析研制期间的批次和模拟上市的批次的杂质概况 对大于鉴定阈值的实际存在的杂质进行结构鉴定 对小于等于鉴定阈值的但可能产生毒性的杂质要求进行鉴定 3.2无机杂质 通常按药典或其他适当的方法来检测和定量即可 催化剂对产品质量的影响应进行评估 对无机杂质的检测应视工艺而定 根据药典标准或已知的安全性数据来制定标准 3.3溶剂 对使用的任何溶剂进行定量分析。 其限度应按照ICH Q3c和已知的安全性数据来制定 。 应特别注意对使用的有毒溶剂进行定量测定。 具体实施按Q3c进行 4.分析方法 按照ICH Q2进行分析方法的验证。若研制期间和模拟上市产品的分析方法有不同，应讨论。 分析方法的定量限度应不大于（≤）报告阈值。 可用各种技术测定有机杂质的含量（对照品、自身对照、加校正因子的对照），只要应用了校正因子或测得的杂质量高于实际的杂质量，该方法仍是可行的。 5.各批次产品杂质含量的报告 1.所有批次产品（临床、安全性研究、稳定性试验、拟上市产品）的分析结果 2.定量测定结果数字化 3.所有大于报告阈值的任何杂质及总和，并附分析方法 4.杂质含量低于1.0%，结果应报告至小数点后两位（如0.06%，0.13%），若大于或等于1.0%，结果报告至小