反渗透系统培训解析.ppt

反渗透故障处理 故 障 症 状 直接原因 间接原因 解决方法 产水流量 盐透过率 压 差 增加 增加 不变 氧化破坏 余氯、臭氧、KMnO4等 更换膜元件 增加 增加 不变 膜片渗漏 产水背压 膜片磨损 更换膜元件 改进保安滤器过滤效果 增加 增加 不变 “O”形圈泄漏 安装不正确 更换“O”形圈 增加 增加 不变 产水管泄漏 装元件时损坏 更换膜元件 降低 增加 增加 结垢 结垢控制不当 清洗；控制结垢 降低 增加 增加 胶体污染 预处理不当 清洗；改进预处理 降低 不变 增加 生物污染 原水含有微生物 预处理不当 清洗、消毒 改进预处理 降低 不变 不变 有机物污染 油、阳离子聚电解质 清洗；改进预处理 降低 降低 不变 压密化 水锤作用 更换膜元件或增加膜元件 压 降 高 症 状 可能的原因 解 决 方 法 产水量低 (进水压力高) 碳酸钙沉淀 在pH2的条件下对系统进行清洗，如果结垢严重，需要重复清洗；如果结垢十分严重或重复清洗不经济时，应更换膜元件。一般情况下，把系统最后的元件取出称重就可以了解结垢的程度。 硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶沉淀 用EDTA在pH12的条件下对系统进行清洗，如果结垢严重，需要重复清洗；如果结垢十分严重或重复清洗不经济时，应更换膜元件。一般情况下，把系统最后的元件取出称重就可以了解结垢的程度(但钡和锶的结垢除外)。 氟化钙结垢 用HCl在pH2的条件下进行清洗。 磷酸盐结垢 过量投加含磷酸根的化学品，通常很难清洗，建议更换新元件。 二氧化硅结垢 在pH12的条件下进行清洗。 膜元件被异物堵塞或膜表面受到磨损 用探测法探测系统内的元件，找到已损坏的膜元件，改造预处理，更换膜元件。 淤泥或粘土堵塞 在pH12的条件下进行清洗。 胶体硅污堵 在pH12的条件下进行清洗。 微生物污堵 在pH12的条件下进行清洗和消毒整个系统。把系统最前面的元件取出称重就可以了解微生物污堵的程度。 活性炭粉末和砂粒 出现永久性产水量下降，需进行单支膜元件的单独清洗，可以部分恢复膜元件的性能。 透盐率高 (脱盐率低) 症 状 可能的原因 解 决 方 法 产 水 量 正 常 “O”形圈泄漏或未装 确定泄漏位置，更换已受损的“O”形密封圈。建议采用合适的密封剂并调整膜元件在压力外壳内的间歇，限制由于元件在压力容器内的运动而引起的密封圈磨损。 膜表面磨损 用探测法可找到已损坏的膜元件，整改预处理，更换膜元件。 内部部件破裂 确定泄漏位置，更换已受损的部件，如果膜元件产水管受损，更换膜元件。调整膜元件在压力外壳内的间隙，限制由于元件在压力容器内的运动而引起的密封圈磨损。 有机物污染 检查有机物或油的含量或是否超回收率操作。在pH12的条件下进行清洗，某些有机物容易清洗，但对聚电解质类有机物污染，清洗无效，而且也难于清洗油类有机物，此时可尝试用pH12的洗涤剂。 碳酸盐结垢 在pH2的条件下对系统进行清洗，可能需要强烈重复清洗，如果结垢十分严重或重复清洗不经济时，应更换膜元件。一般情况下，把系统最后的元件取出称重就可以了解结垢的程度。 硫酸盐结垢 在pH12的条件下对系统进行清洗，可能需要强烈重复清洗，如果结垢十分严重或重复清洗不经济时，应更换膜元件。一般情况下，把系统最后的元件取出称重就可以了解结垢的程度。 膜元件被异物堵塞或膜表面受到磨损 用探测法探测系统内的元件，找到已损坏的膜元件，改造预处理，更换膜元件。 胶体硅污堵 在pH12的条件下进行清洗，但胶体硅污堵的清洗十分困难，建议调整预处理，降低回收率。 氧化铁污堵 采用亚硫酸氢钠在pH5的条件下进行清洗。 其它重金属氧化物污堵 用HCl在pH2的条件下进行清洗。 硫化亚铁污堵 用HCl在pH2的条件下进行清洗。应严防空气进入膜系统。 氟化钙污堵 用HCl在pH2的条件下进行清洗。 磷酸盐结垢 过量投加含磷酸根的化学品，通常很难清洗，建议更换新元件。 产水量低 (操作压力高) 症 状 可能的原因 解 决 方 法 透 盐 率 正 常 微生物污堵 在pH12的条件下进行清洗和消毒整个系统。把系统最前面的元件取出称重就可以了解微生物污堵的程度。 天然有机物污染 在pH12的条件下进行清洗和消毒。 保护液失效 (投运前或投运后) 在pH12的条件下进行清洗。 活性炭粉末和砂粒 出现永久性产水量下降，需进行单支膜元件的单独清洗，可以部分恢复膜元件的性能。 油类有机物污染 在pH12的条件下进行清洗，改善预处理以减少进入膜元件的油类，对于油类有机物的清洗，可尝试采用pH12的洗涤剂。 淤泥或粘土堵塞 在pH12的条件下进行清洗。 胶体硅污堵 在pH12的条件下进行清洗。 氧化铁污堵 采用亚硫酸氢钠在pH5的条件下进行清洗。 其它重金属氧