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模擬电子技术基础总结
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电子技术分模拟技术和数字技术,他们的基础就是入门时所要学习的东西。模拟电子技术基础主要讲二极管,三极管,场效应管,运算放大器,这些独立或者集成器件构建的电路,他们的功能和应用基础,例如二极管的开关电路,稳压电路,三极管的小信号放大电路,场效应管的功放电路等等。数字电子技术基础主要讲的一些逻辑电路,就是由1和0(有的还是1 0 -1或者1 -1)的电路信号构成的电路的基础。例如门电路,触发器,门阵列,编码基础,进制之间的换算,后面还会讲到AD/DA就是模/数转换和数/模转换电路。他们都是电子技术基础。
晶体二极管及应用电路
一、半导体知识
1.本征半导体
·单质半导体材料是具有4价共价键晶体结构的硅(Si)和锗(Ge)(图1-2)。前者是制造半导体IC的材料(三五价化合物砷化镓GaAs是微波毫米波半导体器件和IC的重要材料)。
·纯净(纯度7N)且具有完整晶体结构的半导体称为本征半导体。在一定的温度下,本征半导体内的最重要的物理现象是本征激发(又称热激发或产生)(图1-3)。本征激发产生两种带电性质相反的载流子——自由电子和空穴对。温度越高,本征激发越强。
·空穴是半导体中的一种等效载流子。空穴导电的本质是价电子依次填补本征晶格中的空位,使局部显示电荷的空位宏观定向运动(图1-4)。
·在一定的温度下,自由电子与空穴在热运动中相遇,使一对自由电子和空穴消失的现象称为载流子复合。复合是产生的相反过程,当产生等于复合时,称载流子处于平衡状态。
2.杂质半导体
·在本征硅(或锗)中渗入微量5价(或3价)元素后形成N型(或P型)杂质半导体(N型:图1-5,P型:图1-6)。
·在很低的温度下,N型(P型)半导体中的杂质会全部电离,产生自由电子和杂质正离子对(空穴和杂质负离子对)。
·由于杂质电离,使N型半导体中的多子是自由电子,少子是空穴,而P型半导体中的多子是空穴,少子是自由电子。
·在常温下,多子少子(图1-7)。多子浓度几乎等于杂质浓度,与温度无关;两少子浓度是温度的敏感函数。
·在相同掺杂和常温下,Si的少子浓度远小于Ge的少子浓度。
3.半导体中的两种电流
在半导体中存在因电场作用产生的载流子漂移电流(这与金属导电一致);还存在因载流子浓度差而产生的扩散电流。
4.PN结
·在具有完整晶格的P型和N型材料的物理界面附近,会形成一个特殊的薄层——PN结(图1-8)。
·PN结是非中性区(称空间电荷区),存在由N区指向P区的内建电场和内建电压;PN结内载流子数远少于结外的中性区(称耗尽层);PN结内的电场是阻止结外两区的多子越结扩散的(称势垒层或阻挡层)。
·正偏PN结(P区外接高于N区的电压)有随正偏电压指数增大的电流;反偏PN结(P区外接低于N区的电压),在使PN结击穿前,只有其值很小的反向饱和电流。即PN结有单向导电特性(正偏导通,反偏截止)。
·PN结的伏安方程为:,其中,在T=300K时,热电压mV。
·非对称PN结有结(P区高掺杂)和结(N区高掺杂),PN结主要向低掺杂区域延伸(图1-9)。
二、二极管知识
·普通二极管内芯片就是一个PN结,P区引出正电极,N区引出负电极(图1-13)。
·在低频运用时,二极的具有单向导电特性,正偏时导通,Si管和Ge管导通电压典型值分别是0.7V和0.3V;反偏时截止,但Ge管的反向饱和电流比Si管大得多(图1-15)。
·低频运用时,二极管是一个非线性电阻,其交流电阻不等于其直流电阻。
二极管交流电阻定义:
·稳压管电路设计时,要正确选取限流电阻,使稳压管在一定的负载条件下正常工作。
二极管交流电阻估算:
·二极管的低频小信号模型就是交流电阻,它反映了在工作点Q处,二极管的微变电流与微变电压之间的关系。
·二极管的低频大信号模型是一种开关模型,有理想开关、恒压源模型和折线模型三种近似(图1-20)。
三、二极管应用
1.单向导电特性应用
·整流器:半波整流(图1-28),全波整流(图P1-8a),桥式整流(图P1-8b)
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