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英制形位公差应用指南介绍4(基准部分)分析
b)第一基准要素为RFS宽度 模拟基准为基准要素的理想几何对应物的中平心面。理想几何对应物(或实际配合包容面)是在最小间距(对外表面)或最大间距(对内表面)上的接触基准要素相应表面的两平行平面。 c)第二基准要素为RFS直径或宽度 对外表面和内表面而言,第二基准(轴线或中心平面)是用上述(a)、(b)项中的同样方法建立的。但有一个附加条件:即接触圆柱面或平行面必须在方位上垂直于第一基准(通常是平面),即相对于第一基准要素的实际配合包容面保持垂直。下图中的基准B说明了关于直径的这一原理,同样这也适用于宽度。 d)第三基准要素为RFS直径或宽度 对外表面和内表面而言,第三基准(轴线或中心平面)建立的方法和(c)项所述的方法相同。它的附加要求是:接触圆柱面或平行面相对第一和第二基准两者定向,即相对第一和第二基准两者的实际配合包容面定向,见下图。 在MMC下规定基准要素 当基准要素是在MMC基础上的尺寸要素时,工艺装备中保持尺寸恒定的机加或测量元件可以用来模拟该要素的理想几何形状并建立基准。在此情况下,理想几何对应物的尺寸是由规定的基准要素的MMC极限尺寸或它的MMC实效状态确定。 第一或单个基准要素的尺寸 当第一或单个基准要素的尺寸受圆度或圆柱度公差控制时,用于建立模拟基准理想几何对应物的尺寸应是MMC极限尺寸;例如在MMC下采用直线度公差时,理想几何对应物的尺寸应是MMC实效状态,见下图;当在RFS基础上采用直线度公差时,理想几何对应物的尺寸应是其内边界或外边界,见下图。 第二或第三基准要素的尺寸 同一基准体系中的第二或第三基准要素的尺寸是由位置公差或按相应定位来控制时,用来模拟该基准的理想几何对应物的尺寸为基准要素的实效状态尺寸,见下图。 该图例示出了第二和第三基准要素两者采用MMC的相关规定,且是在实效状态下模拟的。 基准先后顺序和实体状态的影响 当规定了先后顺序的基准包含有尺寸要素时,必须要考虑确定基准要素应适用的实体状态。其实体状态和先后顺序的影响与零件的配合以及功能有关,如下图。 (a) 在RFS下的圆柱要素为第一基准 图(b)中,直径A为第一基准要素并应用RFS;表面B为第二基准要素。基准轴为接触直径A的最小外接圆柱的轴线,即直径A的实际配合包容面。这个圆柱包括了A尺寸在规定极限内的变化。然而,表面B和直径A之间垂直度的变化将影响表面B与其相应基准平面的接触程度。 (b) 表面为第一基准 图(c)中,表面B为第一基准要素,直径A为第二基准要素并应用RFS。基准轴线为与直径A相接触且垂直于基准平面B的最小外接圆柱的轴线,即直径A的实际配合包容面垂直于基准平面B,再加上尺寸变化。此圆柱包括直径A和表面B之间垂直度的任何变化。 (c) 在MMC下的圆柱要素为第二基准要素 图(d)中,表面B为第一基准要素,直径A为第二基准要素并采用MMC。基准轴线是与基准平面B垂直的定位尺寸的实效状态的圆柱的轴线。在此圆柱边界内允许尺寸和基准要素A的垂直度变化。此外,当基准要素A的实际配合包容面偏离其MMC尺寸时,允许其轴线相对基准轴线位移。 公共基准要素 当用不止一个基准要素来建立单一基准时,将这些基准符号字母(连同限定符号),中间用连字符连接填入公差框格的一个格中,如下图所示。由于这些基准要素具有同等重要性,基准符号字母无须考虑其先后顺序。 两平表面的公共基准平面 公共基准平面由同时接触两个表面的高点来模拟。用于建立公共基准平面的中间断开的两表面,作为基准要素要分别标注,见下图。 两同轴要素的公共轴线 两个同轴直径建立的公共基准轴线,是由同时与具有同轴圆柱面的两表面的高点相接触模拟形成的。由同轴基准要素建立的基准轴线通常用作第一基准,见下图。 局部表面作基准 当指定某一部分表面来代替全部表面作为基准要素时,可用平行于表面轮廓画出的粗点划线表示。 多基准体系 分别要求 由于功能要求,部分零件要求多个基准体系,分别要求的标注,如下图。 在图中,基准要素D、B和C及基准要素D、E和B组成不同的基准体系,基准要素A、B和C又另组成一个基准体系。 图示出了在三处规定了几何公差的零件,每项都有各自的基准。尽管有的基准符号字母在每个框格中都有出现,但每种组合都是不同的,都是独立的要求。 同时要求 当有多个被测要素或成组要素相对共用的基准要素以相同的先后顺序和相同的实体状态下的理论正确尺寸来定位时,应将它们看成是一个有同时要求的一个组合,如下图所示。 如果没有这种相互关联的要求时,应在靠近公差框格处标有“分别要求(SEP REQT)”字样。 基准目标 基准目标的表示方法 基准目标可以是点、线、面,各种基准目标的表示方法 。 基准目标的位置 基准目标的位置可以用理论正确尺寸标注。一组基准目标的位置尺寸,应彼此相联系或具有公共基准,
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