平面光学件的加工技术.docVIP

平面光学元件的加工技术 浙江大学 光电系 曹天宁 宁波华光精密仪器公司 周柳云 光学平面零件包括棱镜、、、、、、、、mm,材料主要是光学玻璃,有时是光学晶体,为了达到高精度与高效率,采用技术方法很多,有铣磨、、、、、、、、 、、、 、、、、 、、、△、、、、、、、、、、、、、、、、mm. 工件可以为平面,也可以为棱镜组合光胶镜盘或金属夹具组合棱镜镜盘.由于HPM机型采用变频调速,软启动,软停止,运动平稳,低噪音使用更为方便。 这类机床的工作原理也是母板复制法,要求底盘具有高的平面性,工作盘有时常修正环或分离器,主轴转速高15-85rpm，通常用聚酸脂抛光片加抛光悬浮液抛光.显然修好聚酸脂光盘的平面性是一个关键，可以用平面金属模来修正也可以用金属修正环来修正，这种方法是中等精度的高效加工方法. 图六a.JP560环抛机示意图  图6b.JP560环抛机 图六c.HPM100环型平面研磨抛光机 低速环型抛光法 高精度的平面(如平晶或薄型平面)适合用低速环型抛光法。这种方法也是母板复制法,由于工作母板(柏油抛光盘)具有可塑性,是边抛光边修正的,校正板起保持与修正作用,而速度、reston抛光方程.对工件平面上任意一点M(x,y)(图六)的抛光量h(x,y)为 h(x,y)=A∫P(x,y)V(x,y)dt 式中,P－M(x,y)点的瞬时压强 V(x,y)－M(x,y)点的瞬时速度 T－加工时间 A－与加工过程有关的工艺系数 V－(x,y)作如下分析: , V=Rω, V=r 其瞬时速度中心在M时, (x,y)=0, V=ω, V=(R+e), 当ω1→ω2时，当R→∞，产生平动，速度趋于均匀。 当推动平面的着力点接近接触面时，压力也趋于均匀，从而获得了均匀抛光（磨损）的条件。 热变形是精密加工时要关注的问题，由于抛光热使平行平面工件产生厚度方向的温度线性分布，用△t表示，设工件外经为D，厚度为d，工件材料的热膨胀系数为α，则平面变成球面性变形，求面的矢高为h，则 h=D2α△t/8d 如工件材料采用微晶玻璃或石英玻璃，则热变形很小。 ⑵　低速环型抛光法的工艺参数及工艺装备 以浙江大学1984年机械部签定通过的RP-1000环型抛光机（图七A），南京利生光学机械责任有限公司HPM150型环型机是低速环抛机（图七B）为例讨论参数。 图七a、 图七b HPM150型环型抛光机 ① 环型抛光模：抛光模环带宽度通常为抛光模直径的0.33～～mm之间，抛光胶中通常加入K－17塑料粉，以增加韧性与稳定性，抛光模应加制不通过中心的方格槽，抛光模通过车削或其他方法进行修整。如果采用玻璃或花岗岩作衬底，则模层厚度可以大大减薄。 ②　校正板：可以用熔融石英、～～cm/s之间，速度精度为1%，这时ω1 与ω2接近。 当然，也可以在校正盘卡轮上加装马达，以驱动校正盘的旋转，使ω2趋近ω1。 抛光液：采用点滴式加入氧化铈抛光液，或采用浸没式抛光，后者有利于温度控制，最 好采用离子水，控制PH值。 ⑥　 温度：室内温度为23℃～℃，最重要的是室内温度梯度（空间）与温度变化（时间）的控制，通常用局部自动温控在±0.05℃内。 校正板工件（工件夹持器）装御器：我们设计了一台特殊的推车，高度可以调整， 并带有一组带橡皮圈的滚柱，装御很发方便。 我国几个主要单位的1m环抛机主要工艺参数对照表如表1所示。 表1 我国1m环抛机主要工艺参数对照表 单 位 No.1 No.2 No.3 No.4 No.5 抛光模直径 （米） 1.0 1.09 1.1 1.0 1.0 抛光模表面 不平度（mm） 0.01 车后未测 0.005 0.03 0.01 抛光模转动时 水平度（mm/m） 未测 0.1～1 0.2～0.3 0.06 0.05 ∶3） +10%K17 2#或1.75# 1∶2 （玉门3号） +6%K17 1∶3.5 (独山子) +3%K17 1∶3 (独山子5#) +5%K17 抛光胶软化点 （℃） 70～～～～mm） 17～rpm） 1～～～?590X78（K9） ?630 ?600X60 ?500X80（K4） ?500X70（K4） 室温（℃） 夏26°， 冬23° 21°22° ±0.5° 25°～° ⑶　K17的作用 K17是塑料的商业牌号，就是聚乙烯醇，呈粉末状，色白。聚乙烯醇没有一定的熔点，加热时软化，拉