(化学气相沉积技术制备粉体材料的研究进展及应用.doc

化学气相沉积技术制备粉体材料的研究进展及应用 王 斌，罗康碧 （昆明理工大学化学工程学院，昆明 650093） 摘 要：化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition：简称CVD)是指利用气体原料在气相中通过化学反应形成基本粒子并经过成核、生长两个阶段合成薄膜、粒子、晶须或晶体等固体材料的工艺过程。本文主要论述了化学气相沉积技术的发展历程及其应用领域；重点阐述了CVD技术的基本原理和典型的CVD工艺及其特点；同时分析了CVD技术的优势和缺陷，以及CVD技术的发展趋势，并展望其应用前景。 关键词：化学气相沉积；粉体材料；工艺原理；研究进展；应用 Research Development and Application of Chemical Vapor Deposition Technique in Prepare Powder Materials WANG Bin, LUO Kang-bi (Faculty of Chemical Engineering, Kunming University of Science and Technology, Kunming, 650093) Abstract：Chemical vapor deposition (CVD) refers to the use of raw material gas in the gas phase particles are formed by chemical reaction and nucleation, the growth of two phase composite films, particles, or crystal whisker etc. The technological process of the solid material. This paper mainly discusses the development course of chemical vapor deposition technique and its application field; Expounds the CVD technology the basic principle and typical CVD process and its characteristics; At the same time analyzed the advantages and disadvantages of CVD technique, and development tendency of CVD Technique , and its application foreground is prospected. Key words: chemical vapor deposition; powder material; technical principle; research development; application 1. 化学气相沉积的基本概念： 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition：简称CVD)是指利用气体原料在气相中通过化学反应形成基本粒子并经过成核、生长两个阶段合成薄膜、粒子、晶须或晶体等固体材料的工艺过程[1]。该技术是以挥发性的金属卤化物、氢化物或有机金属化合物等物质的蒸气为原料，通过化学气相反应合成所需粉末。CVD法不仅可以制备金属粉末，也可以制备氧化物、碳化物、氮化物等化合物粉体材料。目前，用此法制备TiO2、SiO2、Sb2O3、Al2O3、ZnO等超微粉末已实现工业化生产。通过化学气相沉积制备粉体材料的方法有很多，按照反应类型可以分为气相氧化、气相还原、气相热解、气相水解等；按照反应器内压力不同可分为常压CVD、低压CVD、超真空CVD等；按加热方式不同可将其分为电阻CVD、等离子CVD、激光CVD、火焰CVD等[7]。 2. 化学气相沉积技术的发展历程： 化学气相沉积是一种古老的“新工艺”。说它古老，因为早在1000多年前的古代，我们民族的祖先就用气相工艺来制取用于做墨的“烟”（炭黑），这在宋代的《墨经》和明代的《天工开物》中都有图文并茂的记载[10]。化学气相沉积技术的研究始于19世纪末期，具有产业开发价值的典型应用是Lodyguine在1893年获得的专利：氢气还原金属氯化物在铂丝上沉积钼、钨等难熔金属作为白炽灯丝。此后CVD技术被引入物质提纯过程中，采用氯气与各种金属和金属化合物反应生成金属氯化物，再用氢气还原这类金属氯化物从而有效地实现金属分离、富集、提取与精炼[6]。 20世纪50年代初到60年代末是CVD技术研究和应用的一个高峰期。这一快速发展很大程度上