X射线荧光分析的应用--玻璃熔片法课件精品.pptVIP

消除样品矿物效应的有效制样方法玻璃熔片法制样与分析技巧介绍 株式会社 理学 X射线荧光事业部 应用技术中心 介 绍 内 容 玻璃熔片法 分析误差的要因 校正检量线法 基体校正公式,基体校正模式(各种模式的比较） 基体校正常数比较,稀释率校正 强热减量?强热增量校正, 助溶剂挥发校正 结论 Ｘ射线荧光分析的应用领域 与 玻璃熔片法的使用行业 粉末样品分析误差的要因 稀释率?强热减量(LOI)?强热增量（GOI)模式 检量线一般公式（含共存元素校正项） 理论基体系数的计算方法 基 体 校 正 模 式 JIS模式和deJongh模式的基体校正系数的比较（1） 分析样品: 稀释率5:1岩石玻璃熔片 分析成分：SiO2 SiO2 检 量 线 比 较 分析样品:稀释率5:1岩石玻璃熔片 JIS模式和deJongh模式的基体校正系数的比较（2） 分析样品: 稀释率5:1 岩石玻璃熔片 分析成分：CaO CaO 检 量 线 比 较 分析样品：稀释率5:1 岩石玻璃熔片 使用玻璃熔片法制样的各种材质样品的基体校正系数的比较~以耐火材料砖的分析为例~ 各材质的主要成分的含量范围和稀释率 不同材质的共存元素校正系数的比较（1）分析成分SiO2 / 测量谱线Si-Ka SiO2检量线图 不同材质的共存元素校正系数的比较（2）分析成分Fe2O3 / 测量谱线Fe-Ka Fe2O3检量线图