非成像光学边缘光线原理.docVIP

非成像光学的边缘光线原理非成像光学的边缘光线原理说明，从光源到目标边缘的边缘光线映射能够应用到非成像器件的设计。然而，在大多数的非成像反射器，包括复合抛物面聚焦器（CPC），至少部分辐射光经过多次反射，一些光线甚至出现被多次反射，最后的检测揭示光源的一些边缘光线没有映射到目标边缘上，尽管这个CPC在二维空间是理想的。使用一个拓扑的方法，我们改善了边缘光线原理的公式，来确保对所有的情况都是正确的。我们提出两种一般原理的不同版本。第一种涉及到不同区域的边界与不同数目的反射器相一致。第二个版本用仅有的单一反射器来说明，但是它涉及到了一个增加的辅助相位空间。我们讨论边缘光线原理作为一个非成像器件的设计程序的使用。CPC用来说明论据的每个部分。说明非成像光学的目标是从一个扩展光源传输辐射光到目标上，用这样的方法得到在目标上的辐射光的详细分布。这个非成像器件的设计是基于边缘光线原理，它说明光源的光线从光源的边缘应该到达目标的边缘。一个表面的边缘被定义为通过光源表面的边缘或者与它相切。尽管边缘光线的概念已经广泛的应用，但是没有边缘光线原理的公式被提出，也没有严格的证据证明它的正确性。此外，最简单的和看起来最自然的原理公式在大多数的非成像系统里被违背了，尤其在复合抛物面聚焦器（CPC）非成像设计的原型中。本文中我们采用一种拓扑的方法来规定和证明一般边缘光线原理。这个原理可以当做非成像光学器件设计的