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- 2017-02-05 发布于湖北
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(c) V 0 金属负,半导体正 - qV q?ns -q[(Vs)0+V] 从半到金的电子数目减少, 金到半的电子流占优势 形成从半到金的反向电流 金属中的电子要越过很高的 势垒 q?ns,所以反向电流很小 q?ns不随V变,所以从金到半的电子流恒定。 V?, 反向电流饱和 阻挡层具有整流作用 对p型阻挡层 V0, 金属负偏,形成从半向金的正向电流 V0, 金属正偏,形成反向电流 1. 厚阻挡层的扩散理论 对n型阻挡层,当势垒的宽度比电子的平均自由程大得多时,电子通过势垒区要发生多次碰撞。 当势垒高度远大于 kT 时,势 垒区可近似为一个耗尽层。 厚阻挡层 须同时考虑漂移和扩散 0 xd x q?ns EF 0 0 V En=q?n 耗尽层中,载流子极少,杂质全电离,空间电荷完全由电离杂质的电荷形成。 这时的泊松方程是 若半导体是均匀掺杂的,那么耗尽层中的电 荷密度也是均匀的,等于qND。 { 0 – 势垒宽度 V与(Vs)0同号时,势垒高度提高,势垒宽度增大 厚度依赖于外加电压的势垒,叫肖特基势垒。 考虑漂移和扩散,流过势垒的电流密度 V0 时,若 qVkT, 则 V0 时,若 ?qV? kT, 则 JsD 随电压变化,不饱和 金属半导体接触伏安特性 V I 扩散理论适用于 迁移率小的半导体 计算超越势垒的载流子数目(电流)
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