第四章场效应管放大电路.pptVIP

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  • 2017-02-09 发布于重庆
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第四章场效应管放大电路

第4章 场效应管的分类; 结型场效应管(JFET)和金属-氧化物-半导体场效应管(MOSFET)的结构、工作原理、输出特性曲线和转移特性曲线,以及各参数; 场效应管放大电路的结构及分析方法; 场效应管的特点(主要与BJT相比较而言) 第4章 场效应管放大电路 FET的特点: FET的分类: 根据结构不同,可分为: 目 录 4.1 结型场效应管(JFET) P沟道结型场效应管 二. 工作原理 P+区内侧与P+区和N沟道交界侧PN结形成比较: 当N沟道JFET工作时,需: 当N沟道JFET工作时,需: 分析工作原理: 可以归纳,vDS=0时vGS对导电沟道的控制作用: vDS对iD的影响 总结工作情况 综上分析可知: 通过实验可以得到iD的经验公式: 场效应管的主要参数 4.3 金属-氧化物-半导体场效应管 ② 漏源电压vDS对漏极电流id的控制作用 ② 漏源电压vDS对漏极电流id的控制作用 ② 漏源电压vDS对漏极电流id的控制作用 ② 漏源电压vDS对漏极电流id的控制作用 总结N沟道增强型MOSFET的工作原理: 二. N沟道耗尽型MOSFET 特点: 当vGS=0时,就有沟道,加入vDS,就有iD。 当vGS>0时,沟道增宽,iD进一步增加。 当vGS<0时,沟道变窄,iD减小。 三.各种FET的特性比较及使用注意事项 各种场效应管的符号及特性 各种场效应管

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