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武汉光谷激光科技园
地
下
室
施
工
方
案
华震劳务建筑公司
2014年4月15日
第一节 工程概况
本工程建设地点为湖北省武汉市江夏区,地下室一层,A区主楼为框架-核心筒结构,B、C区主楼为框架剪力墙结构,其余部分为框架结构。上部结构层数及结构形式详各栋结施。地下室顶板(-1.500m标高)为上部结构的嵌固面。地下室部分±0.000相当于绝对标高24.000m。
编制范围:
本施工方案主要侧重于地下室的结构施工阶段各分部分项工程的施工方法及工艺要求和地下室的施工安排,其余砌筑、装修方案等未涉及的部分按本工程总体施工组织
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