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制备多晶硅主要方法改良西门子法闭路循环三氯氢硅还原法硅烷法硅烷热分解法流化床法冶金法生产太阳能级多晶硅物理法改良西门子法工艺流程氯化合成制备三氯氢硅精馏工序还原工序硅芯制备硅棒整理尾气回收工序氢化工序辅助工艺控制系统电力控制系统氮气制备氢气制备循环水系统等等多晶硅行业现状及工艺过程介绍江苏中能硅业科技发展有限公司郑跃河南信阳目录中国多晶硅的技术突破多晶硅的规模效应多晶硅项目特点多晶硅行业现状年全球十大多晶硅企业分布地图公司名称国家产能万吨年产量万吨年美国德国中国韩国挪威美国日本日本日本中国合计重
制备多晶硅主要方法: 改良西门子法----闭路循环三氯氢硅还原法。 硅烷法----- 硅烷热分解法 流化床法 冶金法生产太阳能级多晶硅---物理法 改良西门子法工艺流程 氯化合成(制备三氯氢硅) 精馏工序 还原工序,(硅芯制备、硅棒整理) 尾气回收工序(CDI) ?氢化工序 辅助工艺:DCS控制系统,电力控制系统,氮气制备,氢气制备、循环水系统,等等 多晶硅行业现状及工艺过程介绍 江苏中能硅业科技发展有限公司 郑跃 河南信阳 2011-7-21 目 录 2.中国多晶硅的技术突破 3.多晶硅的规模效应 4.多晶硅项目特点 1.多晶硅行业现状 2011年全球十大多晶硅企业分布地图 GCL 46,000MT TOKUYAMA10,500MT OCI 42,000MT WAKER 42,000MT MEMC 11,000MT REC 15,000MT HEMLOCK40,000MT MITSUBISH1,500MT LDK 16,000MT M.SETEK 6,500MT MITSUBISH2,800MT 公司名称 国家 产能(万吨/年) 产量(万吨/年) 2009 2010 2011 2009 2010 2011 1 Hemlock 美国 2.47 3.60 4.00 2.13 3.30 3.50 2 Wacker 德国 1.82 3.10 4.20 1.55 2.90 3.20 3 GCL 中国 1.80 2.10 4.60 0.75 1.80 3.10 4 OCI 韩国 1.05 2.70 4.20 0.55 1.60 2.50 5 REC 挪威 1.20 1.80 1.80 0.65 1.20 1.50 6 MEMC 美国 1.15 1.50 1.50 0.70 1.10 1.10 7 Tokuyama 日本 0.82 1.05 1.05 0.66 0.80 0.80 8 Mitsubishi 日本 0.33 0.43 0.43 0.32 0.40 0.40 9 M.Setek 日本 0.30 0.65 0.65 0.28 0.44 0.45 10 LDK 中国 0.60 1.10 1.60 0.25 0.40 1.00 合计 11.54 18.03 24.03 7.84 13.94 17.55 重 慶 [四川樂山,新光1260噸] [樂電天威3000噸] [天威新津3000噸] 江 蘇 [湖北宜昌南玻 1500噸] [随州齐星 1500吨] [青海,亞洲硅業 1500+3000噸 黄河水电1250吨] [陝西 天宏 1500噸] [河南 洛陽中硅 3000噸] [內蒙古,呼和浩特 神舟硅業1500噸 +3000吨] 寧夏石嘴山 陽光硅業1000噸 国电宁夏 2500吨 揚州,順大 1500噸 無錫,中彩 500噸 连云港,中彩 1500吨 萬州大全 1500+3500噸 四川峨眉東汽739廠 200吨+500噸+1500噸 樂山永祥1000噸 眉山瑞能1500噸+1500噸 雅安永旺2X300噸 安陽林州300+3000噸 焦作王封300+1500噸 鹽城,特華 500噸 徐州,中能 46,000噸 [內蒙古,鄂爾多斯多晶硅3000噸] [内蒙古锋威1500吨] [烏魯木齊,特變電工多晶硅1500噸] 2012年投产: 陕西榆林天宏3000吨 四川乐山永祥3000吨 新疆特变电工3000吨 新疆石河子大全5000吨 内蒙古盾安环境3000吨 2011中國多晶硅地图(31個項目,產能126,550噸) [江西新餘LDK16000噸 [景德鎮1500噸] 浙江嘉兴协成1500吨 云南曲靖3000吨 目 录 1.多晶硅行业现状 3.多晶硅的规模效应 4.多晶硅项目特点 2.中国多晶硅的技术突破 多晶硅的技术突破 目 录 2. 中国多晶硅的技术突破 1. 多晶硅行业现状 4. 多晶硅项目特点 3. 多晶硅的规模效应 多晶硅的规模效应 目 录 2.中国多晶硅的技术突破 3.多晶硅的规模效应 1. 多晶硅行业现状 4.多晶硅项目特点 多晶硅的项目特点1 多晶硅的项目特点2 主要方法 多晶硅的项目特点3 工艺流程 氯硅烷 四氯化硅 氢气 辅助系统:硅芯制备、DCS控制系统、电力控制系统、氮气制备、氢气制备、公用系统、尾气处理、污水处理等 多晶硅的项目特点4 主要设备 谢谢各位! * * * * * *
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