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高纯过氧化氢的技术现状 　 l818年I. J. Thenard在研究碱金属过程中发现了过氧化氢（英文名：hydrogen peroxide，又名双氧水，CAS RN＝7722-84-1）。19世纪中，过氧化氢开始形成商品。高纯过氧化氢包括：电子级和食品级。电子级指：在电子行业，过氧化氢主要用来作为硅片清洗剂、光刻胶的剥离剂、印刷电路板蚀刻剂；食品级指：在食品行业，过氧化氢用于对食品漂白、消毒等。在这些专门领域，所用过氧化氢在纯度方面的要求大大超过了工业级过氧化氢。由于高纯过氧化氢的发展势头强劲，其研究与开发日益受到关注和重视。 ? 高纯度过氧化氢净化方法比较： ? 方法 优点 缺点 萃取 操作简单，产量不受限制；工作液组分可作萃取剂，物耗、能耗低 产品净化品质低 树脂吸附 杂质去除率高，可得到多种级别产品；设备占地少，组合方式灵活；没有运动部件；操作可靠简便 树脂消耗大；生产流程和步骤比较复杂 膜分离 杂质去除率高，可得到高级别产品；没有运动部件，操作可靠简便；设备占地少，容易插入原有流程；生产能力容易放大；可以室温下操作 操作压力高；膜使用寿命短 精馏 单套设备即可长周期生产，产量不受限制 物耗、能耗高 重结晶 可得到高浓高纯产品 能耗高 ? 其他方法：活性炭、硅粉、沸石吸附，O3处理、紫外光照射等也是过氧化氢提纯的方法。其中，活性碳吸附法对脱除有机碳特别有效。 ? 高纯度过氧化氢主要生产企业 ? 国外生产高纯度过氧化氢的公司分别有：三菱ガス化学株式会社（简称：MGC）、住友化学株式会社（SUMITOMO CHEM CO LTD）、Air Liquide公司、日本电工公司、宇部兴产公司。 ? 国内生产高纯度过氧化氢的公司分别有：黎明化工研究院、上海哈勃化学技术有限公司等。 ? 高纯度过氧化氢净化技术相关专利： 三菱ガス化学株式会社申请的相关专利 专利号 名称 申请日 公开日/授权公告日 JProcess for purifying an aqueous solution of hydrogen peroxide 1997年4月24日 1998年 JProduction of purified hydrogen peroxide solution 1997年3月19日 1998年9月29日 JProduction of high purity hydrogen peroxide solution 1998年3月14日 1998年12月8日 US5851505 Method of producing purified aqueous solution of hydrogen peroxide 1996年10月9日 1998年4月15日 JProduction of purified aqueous hydrogen peroxide solution 1997年7月17日 1999年2月9日 JProduction of refined liquid hydrogen peroxide 1997年8月29日 1999年3月23日 JProduction of purified hydrogen peroxide aqueous solution 1998年4月8日 1999年10月26日 JP2000001305 Production of purified hydrogen peroxide aqueous solution 1998年6月12日 2000年1月7日 JP20000203812 Purification of aqueous hydrogen peroxide 1999年10月6日 2000年7月25日 JMethod for washing vessel for high purity hydrogen peroxide water 1997年4月11日 1998年10月27日 JP2000302419 Production of purified hydrogen peroxide aqueous solution 1999年4月20日 2000年10月31日 JP2000302418 Production of purified hydrogen peroxide aqueous solution 1999年4月15日 2000年10月31日 JP2001080910 Purification of oxygenated water 1999年9月9日 2001年3月27日 住友