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[2017年整理]低温灰化仪1050X和多功能宽密度等离子体ICP价格
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低温灰化仪1050X和多功能宽密度等离子体ICP价格
标题:等离子体表面处理仪和多功能等离子体表面处理系统AutoGlow参数
库号:JX164149 价格:百度搜【润联网】查询
主要技术参数:
应用领域:生物芯片领域医用材料、光学材料研究电子半导体领域高分子材料研究电化学、高端零部件处理有机材料的灰化、刻蚀仪器性能:自动调频高频发生器内置旋转真空泵此系统通常使用氧及氩的混合气体,氧去除有机物质(碳氢化合物),氩对样品表面进行刻蚀低温等离子灰化、刻蚀、清洗 (0-150 watts RF)真空监测.双重气流针阀控制精确时间定时微处理器程序设置LCD状态数字显示腔室为圆柱形,样品装载为抽屉式抽拉系统,样本操作方便聚碳酸脂安全防护
标题:多功能等离子体表面处理系统AutoGlow和ACE价格
库号:JX164156 价格:百度搜【润联网】查询
主要技术参数:
全自动多功能等离子表面处理系统应用于小型生产及研发实验室的使用和发展历史已经超过了20年,随着研发提升及软硬件更新,现在的系统不但拥有使用的高稳定性和高效率外,其集成化设计和友好操作界面使得用户上手操作及参数调整都非常简易。射频等离子体是最广泛使用和通用性好的等离子体技术,它应用于医疗和半导体的宽广领域内。在通用工业/医疗行业,需要清洁、涂覆或化学改性的材料表面被浸入到射频等离子体的能量环境中,除了射频等离子体的强烈的化学作用外,其定向效应也起到了一个重要的作用。携带动量的粒子到达材料表面后可以物理地去除更加化学惰性的表面沉淀物(如金属氧化物和其它无机物沉淀)以及交联聚合物以锁定等离子体的处理。 OptiGlow ACE 是特别设计用于等离子体处理包括灰化,清洗,表面活化,改性和刻蚀,具有功能性多、易操作性强、无需调试、可靠性高、低成本的优点,广泛应用在半导体制造,微电子微纳加工,生命科学器件制造和前处理等。ACE适合多种工艺气体,如Ar、O2、空气及氟化合物气体如CF4,通过2个气体质量流量控制器控制气体标准和提高系统控制性能。除了结构紧凑和集成度高外,出色的
标题:表面处理机和ACE价格
库号:JX164157 价格:百度搜【润联网】查询
主要技术参数:
全自动多功能等离子表面处理系统应用于小型生产及研发实验室的使用和发展历史已经超过了20年,随着研发提升及软硬件更新,现在的系统不但拥有使用的高稳定性和高效率外,其集成化设计和友好操作界面使得用户上手操作及参数调整都非常简易。其全球客户群已经超过了3000多套,遍布欧美各大著名的微纳米加工实验室及化学生物实验室,著名包括莱斯大学,麻省理工学院,哈佛大学,尤利希中心,法国生物化学与生物分子研究中心,法国应用光学研究所,德国生物技术研究所,德国航空航天研究所,德国马普所,英国国家工程实验室等等。射频等离子体是最广泛使用和通用性好的等离子体技术,它应用于医疗和半导体的宽广领域内。在通用工业/医疗行业,需要清洁、涂覆或化学改性的材料表面被浸入到射频等离子体的能量环境中,除了射频等离子体的强烈的化学作用外,其定向效应也起到了一个重要的作用。携带动量的粒子到达材料表面后可以物理地去除更加化学惰性的表面沉淀物(如金属氧化物和其它无机物沉淀)以及交联聚合物以锁定等离子体的处理。AutoGlow—高纯度石英样品室和石英样品托,3个气体流量质量控制器,150mm基底尺寸,13.56 MHz射频激
标题:多功能等离子处理系统OptiGlow和多功能宽密度等离子体ICP价格
库号:JX164158 价格:百度搜【润联网】查询
主要技术参数:
设备用途及特点:1. 高真空高密度平板电感耦合等离子体系统,由平板电感耦合等离子体源、磁控溅射系统、等离子体沉积腔室、进样室、隔断阀门、送样机构、电源及控制系统和真空系统组成。平板式电感耦合等离子体源配备独创平板式电感天线、低频大功率射频发生器、半自动射频调谐匹配网络。等离子体沉积腔室配备电感耦合等离子体源,4个磁控靶位,出厂前初步安装2支磁控靶。进样室配备样品库、样品辉光清晰靶及样品传递机构。主要用于等离子体辅助化学气相沉积(CVD)、等离子体辅助磁控溅射沉积、薄膜制备与处理、高密度等离子体刻蚀、表面等离子体改性、晶片清洗等。2. 样品台1套,基片台可电动旋转、可加热、可升降。3. 配备可开关观察窗,方便用户观察及取样品。4. 由于采用了超高真空密封技术,极限真空度高,沉积室可进入10-5
标题:等离子体表面处理仪和台式低温灰化仪参数
库号:JX164159 价格:百度搜【润联网】查询
主要技术参数:
PE-100实验室等离子表面处理机 等离子表面处理机是一种非破坏性的表面处理设备,它是利用能量转换技术,在一定真空负压的状态下,以电
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