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X射线荧光光谱分析技术介绍之一(理论)讲述
1 X射线荧光光谱分析技术 一、基础理论 二、仪器的结构与分析条件的选择 三、定量分析方法和基体效应校正 四、SPECTRAplus 软件介绍 一、基础理论 X射线的产生 连续谱线 特征谱线 X射线的性质 吸收 散射 衍射 电磁辐射 X射线的产生 X射线的产生: 特征谱线(光电效应) 特征谱线 荧光产额 特征谱线 特征谱线 特征谱线 谱线的相对强度 X射线的性质 作为一种电磁波,具有波粒二相性的特点: 光电效应 吸收 散射: 相干散射 不相干散射 衍射 X射线的特性:吸收 X射线的特性:吸收限 X-ray energies und absorption edges in keV 二、仪器结构: 原理图 X射线光管发射的原级X射线入射至样品,激发将样品中各元素的特征谱线 分光晶体将不同波长l的X射线分开 计数器记录经分光的特定波长的X射线光子 N 根据特定波长X射线光子 N的强度,计算出与该波长对应的元素的浓度 仪器型号: SRS 3400 仪器型号: S4 EXPLORER/ S4 PIONEER 仪器型号:MRS 4000 X射线光管:发射X射线的原理 X射线光管 :端窗光管示意图 End-window X-ray tubes: higher X-ray transmission by thinner tube windows X射线光管发射的原级谱线 仪器结构: 准直器面罩 准直器面罩的作用相当于光栏: the signal of the sample cup will be effectively supressed the 34 mm mask aperture is optimized to supress 99.99 % of the 34 mm cup signal (Au) huge choice from 42 mm to 8 mm diameter will let you measure any sample size 仪器结构:准直器( Sollers 狭缝) 仪器结构:准直器( Sollers 狭缝) 仪器结构:分光晶体 分光晶体的分辨率 Which multilayer crystal is the most suitable for the very light elements ? Which multilayer crystal is the most suitable for the very light elements ? 脉冲高度分布 - Pulse Height Analysis (PHA) 逃逸峰(escape peak) 堆积(pile-up) 晶体荧光 高次线 电子噪音 脉冲高度分布:逃逸峰 脉冲高度分布:高次线 脉冲高度分布:晶体荧光 死时间校正 解决高计数率问题的方法: 降低功率(电流、电压) 加虑光片 加大PHA的窗口,包括漂移的脉冲和堆积的脉冲。 将计数率控制在300kCPS X射线荧光光谱分析方法 定性分析 只给出化学元素,无浓度; 半定量分析 无标样分析方法,即不需要标准样品; 给出大概的浓度值; 包括了定性分析; 定量分析 使用校准曲线,给出高准确度的浓度值; 适合较大量的日常分析 定量分析方法和基体效应校正 定量分析方法 基体效应 颗粒效应 矿物效应 元素间的吸收增强效应 克服或校正基体效应的方法 基体效应校正的数学方法 经验影响系数法 理论影响系数法 基本参数法 定量分析方法:标准样品的准备一 X射线荧光光谱是一种相对分析方法 准备一套高质量的标准样品 市售标样 矿物类标样 150元/瓶 需要考虑样品的稳定性 固体类光谱分析标样 700元/块 表面处理 液体标样 有效期 挥发(油样) 定量分析方法:标准样品的准备二 配制标样 液体样品和熔融制样的样品可以考虑采用光谱纯或化学纯的物质来配制; 粉末样品由于难以混匀和颗粒效应一般不考虑配制; 研制标样 采用湿法化学分析法定值 定量分析方法:标准试料片的制备 标准样品+制样 标准试料片 固体原样 研磨 可能会带来SiO2,Al2O3污染 表面粗糙度的影响 基体效应严重 压片制样 颗粒效应和矿物效应 熔融制样 稀释对检出限的影响 S,Pb等元素的挥发 制样成本 液体样品 直接进样 虑纸片法 定量分析方法:仪器测量条件的选择 X射线的激发条件 根据分析元素选择电压、电流 虑光片的作用 准直器的选择 灵敏度or分辨率 分光晶体 灵敏度or分辨率 衍射效率(InSn,PET),稳定性(PET) 计数器 PHA的选择 测量时间的
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