IM消影玻璃镀膜技术概要.ppt

13510593900 内 容 提 要 什么是消影ITO 消影ITO的膜层结构 消影ITO的特性 消影ITO技术指标 消影ITO的工艺控制参数 IM膜层调试方法 什么是消影ITO 消影ITO玻璃: 是通过在ITO膜和玻璃之间镀上一层IM膜(INDEX MARGIN层)，使ITO玻璃在刻蚀制作电容屏线路之后，可见光波长500nm—650nm区间,ITO层蚀刻前后反射率△R%0.5%,减少ITO区域和非ITO区域的视觉反差，使得电容屏ITO刻蚀线条变淡，线路的图案在常光下看不见图案线条，起到消除图案的效果的IM+ITO玻璃。 消影ITO与普通ITO比较，具备同样导电性的同时还以下优点: 1. 玻璃透过率增加，反射率减小具有AR膜功能，在同等 背光源的前提下，能通过减少环境光影响获得更好的视觉亮度； 2. 减少ITO区域和刻蚀后非ITO区域的视觉反差，使得电容屏ITO刻蚀线条变淡，提高视觉效果。 消影ITO的膜层结构 膜层组合 GLASS ITO层 IM层 膜系组成：IM(NB2O5/SiO2)+ITO 根据ITO阻值不同，IM层厚度也需要做不同的调整。 目前常用的消影ITO阻值为80~120Ω/□ITO膜厚范围20-27nm 消影ITO的特性 透过曲线比较 普通 ITO 消影 ITO 消影ITO的特性 反射曲线比较 消影ITO的特性 1.ITO消影玻璃在λ=500~650nm范围，ITO刻蚀前反射R%与刻蚀后反射r%的差小于0.5是最佳的消影效果即符合公式 2.CIE L*a*b*反射颜色值符合公式：(UV-2401PC) 消影ITO工艺指标（内控）——透过与反射 IM层550nm透过率最佳控制在90.5%±0.2%，反射率控制在8.8%±0.2%。 类别 400nm 450nm 550nm 650nm T% 刻蚀前 ≥89% ≥89% ≥90% ≥90% R% 刻蚀前 ≤11.% ≤9.8% ≤9% ≤9% t% 刻蚀后 89.5~91% 89.5~91% 90.3~91% 90~91.5% r% 刻蚀后 8~9.1% 8.3~9.5% 8.5~9% 8.3~9.0% 消影ITO工艺指标——颜色指标 CIE L*a*b*范围（反射颜色） 反射550nm颜色值控制： 标准值： -1.0≤a*≤0 -3.0≤b*≤1.0 内控值： -1.0≤a*≤-0.5 -2.0≤b*≤0.5 注意：CIE L*a*b*颜色坐标值，a*与b*尽可能 控制在负值范围内，所做出来的产品颜色才保证 不会发黄。 消影ITO的工艺控制参数 靶材：NB,SiAl靶 + ITO靶（连镀） 阴极靶位：NB靶 （1个） SiAl靶（5个）； ITO靶（2个） 温度设置：设定200°C--450 °C 气体及功率详细工艺根据设备不同而定 消影ITO的工艺控制参数 IM层膜厚控制：（总膜厚75-78nm） NB2O5 4.8~6nm（DT或康宁玻璃5.6~6.4nm） SiO2 66~72nm （DT或康宁玻璃60~64nm） 说明： 各层膜厚准确控制，是消影效果的保证，设计膜系厚度NB/6；SIO2/64；配合ITO/24是理想的膜厚。 IM膜层调试 按工艺指导书参考工艺卡，设定各层使用的功率试镀，工艺片采用0.7mm薄片，基板采用客户报废的原基片玻璃。 F20检测薄的膜层时偏差较大，因此，第一层NB2O5膜厚并不准确，调试过程只做光谱曲线参考，主要依据UV2450扫描光谱曲线对照各波段反射指标控制。 IM膜层调试 膜厚变化调整规律： 当NB2O5层膜偏厚时反射曲线会以中部为点整体上抬，反射率增大，反之，偏薄则会整体下降，趋向平直，反射率减小。 当SiO2层偏厚，反射曲线随着膜厚的增加而下降，且450nm以下越向下弯，反射率减小。超过90nm厚度后，400nm反而向上翘起。膜厚偏薄时，反射率增大，随着厚度减小，450nm以下的曲线逐步向上抬高。 当两层都薄时，曲线变为从400nm向700nm倾斜；当两层都厚时曲线从550nm处前端开始向下弯曲。 IM膜层调试（颜色控制) 颜色值控制负值范围方法： 1、当发现颜色值出现正值，说明600nm之后的反射增加了，查看反射曲线，如反射率在控制范围，只需将第二层膜厚减小，使反射曲线的反射率从450nm向650nm递减，一般情况都可以纠正过。 2、假如反射率曲线都很低，除了减少第二层膜厚之外，第一层适当的增加膜厚。 参考附件： 正常工艺曲线 参考附件：正常工艺曲线 UV-2450曲线 参考附件：异常 SIO2偏厚 参考附件：