第三章纳米薄膜材料PVD课件.ppt

Seminar的总结 1 ppt 的制作 2 对论文的理解 3 声音，表情，动作 纳米薄膜的分类 A：由纳米粒子组成(或堆砌而成)的薄膜。 B：在纳米粒子间有较多的孔隙或无序原子或另一种材料，即纳米复合薄膜 由特征维度尺寸为纳米数量级（1－100nm）的组元镶嵌于不同的基体里所形成的复合薄膜材料。 “纳米复合薄膜” 按用途可分为两大类： a:纳米复合功能薄膜 b:纳米复合结构薄膜 a:纳米复合功能薄膜：利用纳米粒子所具有的光、电、磁方面的特异性能，通过复合赋予基体所不具备的性能，从而获得传统薄膜所没有的功能。 电磁学性质 导电薄膜：Au, Ag, Cu, Al, NiCr, NiSi2, NiSi, CoSi2, TiSi2, SnO2 电介质薄：SiO2, CaF, BaF2, Si3N4, AlN, BN, BaTiO3, PZT(PbZr1-xTixO3) 半导体薄膜：Si, Ge, C, SiC, GaAs, GaN, InSb, CdTe, CdS, ZnSe 超导薄膜：YBCO (YBa2Cu3O7) 磁性薄膜： Co-Cr, Mn-Bi, GdTbFe, La1-xCax(Srx)MnO3 压电薄膜：AlN, ZnO, LiNbO3, BaTiO3, PbTiO3　 b) 光学性质 吸收，反射，增透膜： Si, CdTe, GaAs, CuInSe2, MgF 发光膜： ZnS, ZnSe, AlxGa1-xAs, GaN, SiC 装饰膜：TiN/TiO2/Glass, Au, TiN b:纳米复合结构薄膜：通过纳米粒子复合提高机械方面的性能 a) 硬度，磨损，摩擦 TiN, CrN, ZrN, TiC, CrC, ZrC, Diamond b)腐蚀 Au, Zn, Sn, Ni-Cr, TiN, BN 金属／绝缘体、半导体／绝缘体、金属／半导体、 金属／高分子、半导体／高分子 3．2纳米薄膜材料制备技术 常用的几种加热器形状 蒸镀实验步骤: 1)基片清洗以及安装：对薄膜基片，先用水洗掉灰尘，再用超声波清洗干净，取出后用高纯度氮气吹干，把干净的基片放在样品架指定位置。 2)镀膜材料的准备，安放在蒸发用坩埚内。 3)盖好钟罩，抽真空，达到蒸发镀膜的真空要求（10-4Pa左右）。 4)开启坩埚的加热电源，烘烤样片。 5)预熔镀膜材料。 6)移开基片的挡板，设定样片基片的加热程度，把蒸镀材料加热到一定温度（熔点以上），开始蒸镀。 7)蒸膜厚度达到要求以后，把挡板拨回原位，依次关闭镀膜材料、基片的加热电源，等基片冷却到室温左右，关闭真空泵，开启钟罩，取出样片进行测试。 在激光加热方法中，需要采用特殊的窗口材料将激光束引入真空室中，并要使用透镜或凹面镜等将激光束聚焦至被蒸发材料上。针对不同波长的激光束，需要选用不同光谱透过特性的窗口和透镜材料。 激光加热方法特别适用于蒸发那些成分比较复杂的合金或化合物材料，比如近年来研究较多的高温超导材料YBa2Cu3O7等。 优点： (2)溅射制膜技术的应用 ①溅射制膜法适用性非常之广。 就薄膜的组成而言，单质膜、合金膜、化合物膜均可制作。 就薄膜材料的结构而言，多晶膜、单晶膜、非晶膜都行。 若从材料物性来看，可用于研制光、电、声、磁或优良力学性能的各类功能材料膜。 电子束加热装置结构 (热灯丝释出电子) 电子束加工时注意事项 当电子束撞击到金属、气体或金属蒸汽时，会产生X射线，伤害人体细胞。在电子束加工中，必须注意X射线辐射对人体的危害。 因此需要配置足够厚的钢壁或外壁包铅以防止射线外溢。 图1 :薄膜由均匀的微小晶粒组成. 图中膜层表面的裂纹是由于基底Ta 表面具有一定的粗糙度造成的. 注意事项 1)预熔镀膜材料时要保证挡板挡在样片上。 2)样片取出前要冷却样片到室温左右。 沉积合金膜，应在整个基片表面和膜层厚度范围内得到均匀的组分。 ③合金膜的制备 可采用两种方式（p53图3.6） 单电子束蒸发源沉积 多电子束蒸发源沉积 蒸镀法制取化合物膜的限制因素: 1)大多数的化合物在加热蒸发时会全部或部分分解。所以用简单的蒸镀技术无法由化合物直接制成符合化学计量比的膜层。(但有一些化合物，如氯化物、硫化物、硒化物和碲化物，甚至少数氧化物如B203、Sn02，可以采用蒸镀。因为它们很少分解或者当其凝聚时各种组元又重新化合。) 2) 与坩埚材料反应从而改变膜层成分。 ④化合物膜的制取 制取化合物膜的途径是采用反应镀。例如镀制TiC是在蒸镀Ti的同时，向真空室通人乙炔气，在基片上发生以下反应，而得到TiC