申请号CN03155386.9名称防眩硬涂膜主分类号G02B111(2006.01.doc

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申请号CN03155386.9名称防眩硬涂膜主分类号G02B111(2006.01.doc

------------------------------------------------------------ 申请号:C9 名称:防眩硬涂膜 主分类号:G02B1/11(2006.01)I 分类号:G02B1/11(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I 申请(专利权)人:琳得科株式会社 发明(设计)人:所司悟;稻冈治;竹迫义孝 公开(公告)日:2007.04.04 公开(公告)号:CN1308705 专利代理机构:中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人:陈季壮 申请日:2003.08.28 地址:日本东京都 摘要:一种包含透明基质薄膜和设置在透明基质薄膜至少一面上防眩硬 涂层的防眩硬涂膜,其中,防眩硬涂层包含(A)通过离子辐射而固化 的树脂,和每100重量份固化树脂0.2—10重量份(B)二氧化硅微粒和 1—20重量份(C)硅氧烷树脂微粒。当该薄膜用于各种显示器时,在不 降低显示图像优良品质的情况下,能够提供优异的防眩性能。另外, 该薄膜还有利地用作具有大表面硬度的保护膜。 主权项:权利要求书 1.一种防眩硬涂膜,包括透明基质薄膜和设置在透明基质薄膜 至少一面上的防眩硬涂层,其中防眩硬涂层包含A通过离子辐射而固 化的树脂,和每100重量份固化树脂,0.2-10重量份B二氧化硅微粒 和1-20重量份C硅氧烷树脂微粒。 ------------------------------------------------------------ 申请号:C4 名称:高温高功率太阳能液态光学透镜 主分类号:G02B3/12(2006.01)I 分类号:G02B3/12(2006.01)I;F24J2/06(2006.01)I;F24J2/08(2006.01)I 申请(专利权)人:孙贵芳 发明(设计)人:孙贵芳 公开(公告)日:2007.04.04 公开(公告)号:CN1308706 专利代理机构: 代理人: 申请日:2003.07.08 地址:430205湖北省武汉市江夏区流芳街机站侧路15号 摘要:高温高功率太阳能液态光学透镜,涉及太阳能高效利用的一种新的光学领域,由于传统 透镜采用玻璃制成,比重过大,加工困难,易碎,生产成本高,而液态度透镜成本只有玻璃 透镜成本的5-10%,采用非常容易生产的聚合物透明塑料或树脂塑料,制成一种可实现进排 水的凸透镜壳,注满纯净水后,就成为太阳光液态透镜,其聚焦光斑直径为10-15cm,产生 温度高达1200-1500℃,峰值功率高达2400瓦,在注水时加入不同色彩的水可使温度可调, 光谱可调,本发明的方法,可实现超低成本,高温高功率利用太阳能,主要用于蒸饭、炒菜、 采暖、高温热动力发电、抽水灌溉、太阳光物理教学。 主权项:权利要求书 1、高温高功率太阳能液态光学透镜,其特征在于:凸透镜壳采用聚合物塑料,树 脂塑料或钢化玻璃,经热物理变形或注塑成型;凸透镜圆形框架由抗变形塑料构成,凸 透镜圆形框架的径向内壁由2cm厚的轴向档圈构成,沿档圈径向分别开有4个进水孔, 所述4个进水孔分别与装有纯净无色水的水箱。红色色素水的水箱,绿色色素水的水箱 和蓝色色素水的水箱连接,另外开有一个排水孔;透镜由不同的进水孔分别注入纯净无 色水或任意比例的红.绿.蓝三色水。 ------------------------------------------------------------ 申请号:C5 名称:曝光装置用的反射镜、曝光装置用的反射型掩模、曝光装置以及图案形成方法 主分类号:G02B5/08(2006.01)I 分类号:G02B5/08(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;G03F1/14(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I 申请(专利权)人:松下电器产业株式会社 发明(设计)人:远藤政孝;笹子胜 公开(公告)日:2007.04.04 公开(公告)号:CN1308707 专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司 代理人:汪惠民 申请日:2003.09.25 地址:日本大阪府 摘要:一种曝光装置用的反射镜、曝光装置用的反射型掩模、曝光装置以 及图案形成方法。所述曝光装置具备,反射型掩模(20)和第一反射镜 (30a)、第二反射镜(30b)、第三反射镜(30c)以及第四反射镜(30d)。 反射型掩模(20)具有,选择性地形成在掩模基板上且反射极紫外线的 反射层、形成在反射层的上面且吸收极紫外线的极紫外线吸收层、以及 形成在反射层上的至少是没有形成极紫外线吸收层的区域的红外线吸收 层。反射镜具有形成在镜面基

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