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明道大學 高解析X光繞射儀 PANalytical XPert PRO MRD 管 理 辦 法 一、目的： 為維持本實驗室貴重儀器正常運作及發揮其最大功能，特訂定此管理辦法以供使用者依循。 二、儀器設備： 1.儀器中文名稱：高解析X光繞射儀 2.儀器英文名稱：High Resolution X-ray Diffractometer 3.儀器英文簡稱：HRXRD 4.儀器設備說明： 儀器購置日期：2004年7月 儀器經費來源：教育部補助款 儀器設備管理維護單位：明道管理學院材料科學與工程學系 儀器放置地點：寒梅大樓梅館地下室B07 儀器設備諮詢人員：翁克偉教授 04-8876660 ext 801 儀器操作技術人員：陳詠琳小姐04-8876660 ext 8012 儀器廠牌：PANalytical 儀器型號：XPert PRO MRD 儀器主要規格：儀器、附件 及週邊設備之名稱 規格、功能及用途 XPert PRO MRD X光繞射儀 X光廣角及低掠角繞射分析，可進行薄膜微結構之分析量測。 X光極圖分析（Pole Figure），可進行磊晶關係及優選結構分析。 進行薄膜材料殘餘應力分析。 高解析測角器 High Resolution Goniometer ω，2θ有搭配光學位置偵測器，確保精確度。 ω，2θ精密度：≦0.0001?。 ω，2θ重現性：≦0.0001?。 ω, Range：-20?~ +120? 2θ, Range：-40?~ +170? 樣品載台 MRD Cradle 載台各軸傾斜、轉動、移動需配合電腦控制，以馬達精密移動角度。 x axis 傾斜範圍：180? ((90?)，精密度：≦ 0.01?。 ψ axis 轉動範圍：± 360?，精密度：≦ 0.02?。 x,y axis 移動範圍：至少100mm X 100 mm，精密度：≦ 0.01mm。 z axis 移動範圍：至少10mm，精密度：≦ 0.001mm。 三、儀器簡介及服務項目：： PANalytical X’Per Pro MRD 系統具有下列五大功能： a. Powder diffraction / Phase Analysis粉末繞射 即最常使用的θ-2θ scan，可以為單晶及多晶樣品之相鑑定。用本系統新型偵測器 X’Celerator可縮短量測時間並獲得高訊號/雜訊比之數據，X’Celerator量測時間相較於一般比例計數器(Proportional Detector)可以縮減為原本的1/100。另外小角度（全反射角（大約0.6?）以上）亦可進行θ-2θ scan分析，量測大間距晶體結構材料，傳統XRD均限制在2?或5?以上才能量測。 b. Grazing Incident X-ray Diffraction (GIXRD)低略角入射X光繞射 適合使用於薄膜及厚膜之材料，明確薄膜材料的相鑑定，也可以做面內 In-Plane的GIXRD，由於分析之入射角度可低於1?，因此對於極薄之薄膜可準確進行相鑑定分析。 c. Texture (Pole Figure Analysis) 極圖分析 織構量測，用於鑑定不同相位角度中是否有磊晶存在，並鑑定磊晶關係。 d. Stress Analysis 以非破壞性方式獲得塊材及薄膜殘餘應力。 四、服務項目: 服務項目 服務內容 XRD 粉末繞射分析 XRD 低掠角繞射分析 XRD 應力分析 XRD 極圖分析 五、機台開放時間： 上午 下午 晚上 週一 09；00至12；00(校外優先登記) 14；00至17；00(校外優先登記) 開放自行操作 週二 09；00至12；00(校內優先登記) 14；00至17；00(校內優先登記) 開放自行操作 週三 09；00至12；00(校外優先登記) 14；00至17；00(校外優先登記) 開放自行操作 週四 09；00至12；00(校內優先登記) 維修保養 開放自行操作 週五 09；00至12；00(校外優先登記) 14；00至17；00(校外優先登記) 開放自行操作 週六 開放自行操作 開放自行操作 開放自行操作 備註 1.原則上晚間及假日開放材料系自行操作 (資格限檢定合格者)。 六、申請使用辦法： 本機台之使用分為委託操作及自行操作兩方式。 1.預約方式 預約使用XRD請上材料系網站下載最新委託或自行操作表格(如附件一)， 填寫後於指導教授及實驗室負責老師翁克偉博士簽核後方算預約成功，每週四以前將申請單繳交至材料系XRD技術員處，每週五公告於XRD門口，預約時間送件先後排定。首次欲使用本儀器，請先與諮詢教授接洽相關事宜。 委託操作改以序號預約.不再提供時段預約 已完成預約,若欲取消,請於操