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EE141 EE141 阈值电压(threshold voltage: Vt ) id 正比于 W/L Drain current characteristics 电流特性 三、Layout Design Rules 3、Design Rules (Scalable Design rules): 工艺参数与版图尺寸按比例缩小 CMOS Layout Layout Editor Design Rule Checker NAND layout 四、估算寄生参数 1) Poly/metal线-衬底电容 Two components (两部分): parallel plate (平板电容) Fringe (边缘电容). poly N+ P+ M1 M2 Sheet Resistance: 3.2 3.7 2.9 0.09 0.09CAPACITANCE : 99 1762 1862 32 13 aF/um^2 4 transistor parasitics 晶体管寄生参数 Basic transistor parasitics 1)Gate capacitance 栅电容 CG = Cox WL 1、W=3 L=2 2、W = n (W = 3 ) L=2 作业:0.13u最小尺寸1)标出各部分名称,尺寸2) 计算AD,AS,PD,PS3)估算输入电阻、电容4)估算输出电阻、电容 各类线电容、电阻比较 线 电容 电阻 线性能 用途 Metal 最小 最小 好 各类线 多晶硅 较小 大 (约50倍) 中 局部连线 N+、P+ 大 (约十倍) 大 (约50倍) 差 MOS管内部线 (重要) Gate to substrate 栅-衬底电容 CGB gate to source/drain overlap capacitances 栅源/漏电复盖电容 CGS CGD Source/drain diffusion capacitance源/漏扩散电容 CSB CDB 复盖 Cox is gate capacitor per unit area (单位面积栅电容) t ox n + n + Cross section L Gate oxide x d x d L d Polysilicon gate Top view Gate-bulk overlap Source n + Drain n + W Cox = ?ox / xox ?ox = 3.46 x 10-13 F/cm2 Permittivity(介电常数)of silicon Xox is oxide thichness (栅氧厚度) (SPICE中用tox表示Xox) p.66 CGB = CG 2) Source/drain overlap capacitances Cgs, Cgd. Determined by source/gate and drain/gate overlaps. Independent of transistor L. Cgs = Col W Col 每单位宽度复盖电容 CGBO CGSO CGDO SPICE 参数 P.66 x d x d L d Polysilicon gate Top view Gate-bulk overlap Source n + Drain n + W 3) Source/drain diffusion capacitance. 源/漏扩散电容 CSB CDB 五、 MOS器件SPICE参
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