等离子体处理作用及介绍.pptVIP

等离子体表面处理技术讲座 -----深圳奥坤鑫科技有限公司 网址 制作人：钟 娅 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 1、什么是等离子体及怎样建立等离子体； 等离子体 (中文) = PLASMA (英文) = 电浆 (台湾) 等离子体的发现: 1879、英国物理学家、 William Crookes----物质第四状态 1929、美国化学物理学家、 Langmuir----等离子体 等离子体定义： 部分或是全部电离的气体； 主要包括：电子、离子、中性基团、分子、光子 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 固体 ? 液体 ? 气体 ? 等离子体 能量 能量 能量 等离子体的形成 物质的四种状态 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 什么是等离子体 等离子体成分,对外呈现电中性 物质的第四种形态 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 低温等离子体的建立系统(PCB行业);水平式和垂直式 等离子体工业生产模型 产生低温等离子体系统 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 等离子体主要作用：清洁、蚀刻和改性 清洁：去除表面有机物污染和氧化物 蚀刻：化学反应性蚀刻、物理蚀刻 改性：粗化、交联 2、等离子体在现代工业中的主要用途 等离子体的主要用途： 半导体IC行业 蚀刻小孔，精细线路的加工 IC芯片表面清洗 绑定打线 沉积薄膜 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 纺织行业 纺织纤维表面改性； 生物和医疗行业 半透膜表面亲水的改性； 医疗器械的清洁； 镀膜 物理气相沉积（PVD）镀膜； 化学气相沉积（CVD）镀膜； 磁控溅射镀膜； PCB制作 清洗作用: 改善可焊性; 蚀刻作用:去钻污、去除电镀夹膜; 表面改性:增加亲水性,增强结合力; Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 等离子体技术在PCB行业的应用； 清洗作用（有机物CF4+O2,无机物Ar2+O2） BGA焊盘的清洗；化镍浸金前处理； 蚀刻作用（有机物CF4+O2） 高多层背板去钻污；多层软板；刚挠板去钻污处理；去除夹膜; 表面改性作用（ CF4+O2 N2+H2) PTFE板材沉铜前处理、阻焊前处理；层压前处理粗化； Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 3、H2/N2等离子体对以PTFE基高频板改性的研究； 前言 通讯高保密性 高频通信 高速传输 低介电常数 低介质损耗因素 耐高温 聚苯醚 、氰酸脂 聚丁二烯 最常用：PTFE PTFE聚四氟乙烯 物理特性：介电常数低、介电强度高 、介质损耗因素小、半阻燃性、耐热性好； 化学特性：强的耐化学腐蚀性、 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. PTFE难以被水润湿的原因