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氮化硅陶瓷及其制备成型工艺
氮化硅(Si3N4
氮化硅是在人工条件下合成的化合物。虽早在140多年前就直接合成了氮化硅,但当时仅仅作为一种稳定的“难熔”的氮化物留在人们的记忆中。二次大战后,科技的迅速发展,迫切需要耐高温、高硬度、高强度、抗腐蚀的材料。经过长期的努力,直至1955年氮化硅才被重视,七十年代中期才真正制得了高质量、低成本,有广泛重要用途的氮化硅陶瓷制品。开发过程为何如此艰难,这是因为氮化硅粉体和氮化硅陶瓷制品之间的性能和功能相差甚远,没有一个严格而精细的对氮化硅粉体再加工过程,是得不到具有优异性能的氮化硅陶瓷制品的。没有氮化硅陶瓷就没有氮化硅如今的重要地位。
Si3N4分子中Si原子和周围4个N 原子以共价键结合,形成[Si-N4]四面体结构单元,所有四面体共享顶角构成三维空间网,形成Si3N4,有两种相结构,α相和β相如下图所示:
α相结构
β相结构
其共价键长较短,成键电子数目多,原子间排列的方向性强,相邻原子间相互作用大。Si3N4存在两种由[Si-N4]四面体结构以不同的堆砌方式堆砌而成的三维网络晶形,一个是α-Si3N4,另一个是β-Si3N4。正是由于[Si-N4]四面体结构单元的存在,Si3N4具有较高的硬度。在β-Si3N4的一个晶胞内有6个Si原子,8个N 原子。其中3个Si 原子和4 个N原子在一个平面上,另外3个Si原子和4个N原子在高一层平面上。第3层与第1层相对应,如此相应的在C轴方向按ABAB…重复排列,β-Si3N4的晶胞参数为a=0.7606 nm,c=0.2909 nm。α-Si3N4中第3层、第4层的Si原子在平面位置上分别与第1层、第2层的Si原子错了一个位置,形成4 层重复排列,即ABCDABCD…方式排列。相对β- Si3N4 而言,α-Si3N4 晶胞参数变化不大,但在C 轴方向约扩大一倍(a=0.775nm,c=0.5618),其中还含有3%的氧原子以及许多硅空位,因此体系的稳定性较差,这使α相结构的四面体晶形发生畸变,而β相在热力学上更稳定。由于氧原子在α相中形成Si-O-Si离子性较强的的键,这使α 相中的[Si-N4]四面体易产生取向的改变和链的伸直,原子位置发生调整,使得α 相在温度达到1300 ℃以上时转变到β相,使其结构稳定。
氮化硅陶瓷的优异的性能对于现代技术经常遇到的高温、高速、强腐蚀介质的工作环境,具有特殊的使用价值。比较突出的性能有:
(1)机械强度高,硬度接近于刚玉,有自润滑性,耐磨。室温抗弯强度可以高达980MPa以上,能与合金钢相比,而且强度可以一直维持到1200℃不下降。
(2)热稳定性好,热膨胀系数小,有良好的导热性能,所以抗热震性很好,从室温到1000℃的热冲击不会开裂。
(3)化学性能稳定,几乎可耐一切无机酸(HF除外)和浓度在30%以下烧碱(NaOH)溶液的腐蚀,也能耐很多有机物质的侵蚀,对多种有色金属熔融体(特别是铝液)不润湿,能经受强烈的放射辐照。
(4)密度低,比重小,仅是钢的2/5,电绝缘性好。
2.重要的应用
氮化硅陶瓷的应用初期主要用在机械、冶金、化工、航空、半导体等工业上,作某些设备或产品的零部件,取得了很好的预期效果。近年来,随着制造工艺和测试分析技术的发展,氮化硅陶瓷制品的可靠性不断提高,因此应用面在不断扩大。特别值得赞赏的是,正在研制氮化硅陶瓷发动机,并且已经取得了很大的进展,这在科学技术上成为举世瞩目的大事。有关应用的主要内容有:
(1)在冶金工业上制成坩埚、马弗炉炉膛、燃烧嘴、发热体夹具、铸模、铝液导管、热电偶测温保护套管、铝电解槽衬里等热工设备上的部件。
(2)在机械工业上制成高速车刀、轴承、金属部件热处理的支承件、转子发动机刮片、燃气轮机的导向叶片和涡轮叶片等。
(3)在化学工业上制成球阀、泵体、密封环、过滤器、热交换器部件、固定化触媒载体、燃烧舟、蒸发皿等。
(4)在半导体、航空、原子能等工业上用于制造开关电路基片、薄膜电容器、承受高温或温度剧变的电绝缘体、雷达天线罩、导弹尾喷管、原子反应堆中的支承件和隔离件、核裂变物质的载体等。
(5)在医学工程上可以制成人工关节。
(6)正在研制的氮化硅质的全陶瓷发动机代替同类型金属发动机。
今后的发展方向是:⑴充分发挥和利用Si3N4 本身所具有的优异特性;⑵在Si3N4?粉末烧结时,开发一些新的助熔剂,研究和控制现有助熔剂的最佳成分;⑶改善制粉、成型和烧结工艺; ⑷研制Si3N4 与SiC等材料的复合化,以便制取更多的高性能复合材料。Si3N4 陶瓷等在汽车发动机上的应用,为新型高温结构材料的发展开创了新局面。
利用Si3N4 重量轻和刚度大的特点,可用来制造滚珠轴承、它比金属轴承具有更高的精度,产生热
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