硅氧烷聚合膜原子氧防护涂层研究.pdfVIP

硅氧烷聚合膜原子氧防护涂层研究 王敬宜 李中华王云飞 L中固空间技术研究{皖5lO所，兰州730000) 摘要 介绍了自行研制的等离子体聚合装置的结构和性能。装置可在片状基材和柱 状基材上制备硅氧烷聚合膜。增加卷绕机构后，装置可在宽200mm，长数米的柔性基材 上制备均匀聚合膜。叙述了在装置上进行的制备硅氧烷聚合膜的试验，简要介绍了聚合 膜沉积速率、性能、组分结构等与聚合参数的关系。在多种基材上制备了聚合膜。在 Kapton、聚酯薄膜材料，碳纤维环氧树脂复合材料、以及金属银上制备了防原子氧保护 7， 膜。制备有硅氧烷聚合膜的Ea口LOll、在原子氧作用后，不仅质量损失仅为0．03mg／Cfll 而且光学性能也未发生明显变化。在聚酯薄膜、碳纤维环氧树脂复各材料以及金属银等 材料上制备防护膜的实验也证明，硅氧烷等离子体聚合膜对这些材料郝具有优异的防原 子氧保护作用。其它环境试验也证明，这种聚合膜适合空问使用。 关键词原子氧防护等离子体聚合 引言 原子氧严重腐蚀航天器嵌向材料，严重影响航大器的性能和寿命。 ‘些对原f氧敏感的材料， 必须采用自效的防护措施。目前采Ⅲ比较多的方法是，在材料农面涂敷～层耐原子氧作埘的防护 膜…。防护膜以金属、金属氧化物、氟化物、以及含硅化合物为土。涂敷的方法有电镀、蒸发镀、 化学气相沉移{等。等离子体聚合是’种重要的化学气相沉积技术。 等离子体聚合是本质Ii不同于常规聚合的聚合物生长过程，是20世纪70年代发展起来的技 术。在一定条件F，聚合单体形成等离子体，产生大量活性集团，在【占1体表面沉积、生长，形成 聚台膜。与常规的物理、化学气相沉积相比较，其聚合膜具有以下特点：致密、无针孔、高度交 联、与基村黏附力强，根据需要，可以通过调节聚合参数，方使的调节聚合膜的组分、结构和性 能。因此，等离子体聚合是一种具有广泛用途的制备薄膜的技术。国外在Kapton等材料上通过等 离子体聚合制备硅氧烷聚合膜，实验证明聚合膜具有优异的防原子氧性能”1。 本文介绍了我们研制的聚合装置和工艺试验研究结果，并着重叙述了聚合膜作为防原子氧涂 层的应用及其性能。 1聚合装置简介 等离子体聚台制备防原子氧涂层实验是在我们研制的平行平板等离子体聚合装置上进行的 频电源，输出功率在0～1000W可调：射频电源输出的射频功率经射频匹配网络接入电极，在两 419 极板间产生辉光放电，形成等离子体。匹配调节适当，射频功率传输的驻波比小于1．5。聚合单 体、反应气体和放电辅助气体，通过气体质量流量控制器进入。气体的流最，可根据需要，在O～ 20SCCM选择。输入的工作气体进入上极板的锥形空间，上极板的下部平板上有许多均匀分布的小 孔，气体可以均匀分布在整个放电空间。待制备薄膜的试样被放置存下极板上。采用机械泵和分 子泵，可以在较短时间内使本底真空度达到3．0×10。Pa；放电时采用机械泵和罗兹泵维持工作压 强，一般在10～～lOPa范围。 为了在柱状试样上制备均匀薄膜，在下极板上另研制了专用的试样架。安装在真空室外的电 机产生的转动通过磁力传导器传入真空室内，再通过软轴，带动试样转动。可以根据要求，通过 调节电机的转速，试样以不同速度转动。在制各薄膜时，试样可以绕轴转动，使沉积在试样上的 聚合膜均匀一致。 为了在较大面积的柔性薄膜基材上制各聚合膜，我们对下极板进行了改造，在下极板F部安 装了卷绕机构。步进电机的转动，通过磁力传动，带动转轴转动；卷绕在转轴上的基材在卜极板 上平稳移动。计算机控制步进电机的转速，基材可以需要的速度运动。卷绕机构详见文献。’。增 加卷绕机构后，可以在宽200mm、长度数米的柔性基材上制各薄膜。 Gosflow 图1 平行平扳射频等离子体聚合装置原理图 2聚合工艺研究 聚合装置研制成后，我们进行了多次聚合制各薄膜的试验。由丁需要考虑的参数较多，包括： 极板间距、聚合单体(六甲基--@氧烷)的流量、反应气体(氧气)和载气(一般用氩气)流量