化学气相沉炉和微波等离子体化学气相沉积炉WBMW-DLZ3价格.docx

化学气相沉积炉和微波等离子体化学气相沉积炉WBMW-DLZ3价格标题:真空镀膜仪和化学气相沉积装置价格库号：JX163567 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：型号/modelWBMW-DLZ3可加热材料 非易燃易爆的任何材料微波频率2.45GHZ±50MHz加热方式纯微波加热最大功率/KW3 (功率可调)最高工作温度/℃1200长期工作温度/℃≤1100温度测试元件微波场专用传感器/红外测温可选控温精度/℃±2（微波场专用传感器）石英管尺寸(外径/内经X长度)/mmφ102/φ92x1000真空系统配置（可选）简单机械泵抽真空和不锈钢法兰；10-1Pa真空用高档机械泵及真空计；10-2Pa真空用高档机械泵、扩散泵及真空计；10-3Pa真空用高档机械泵、分子泵及真空计；升温速率(标配) 0～1000℃/min任意设定，可编程、分段加热外型尺寸(长x宽x高)/mm1000′750′1830微波泄漏量/nb标题:快速磁控溅射仪和高精度镀膜仪208HR价格库号：JX163570 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：型号/modelWBMW-QXCJ4可加热材料 非易燃易爆的任何材料微波频率2.45GHZ±50MHz加热方式纯微波加热、传统电加热、混合加热最大功率/KW4 (功率可调)温度测试元件微波场专用传感器/红外测温可选控温精度/℃±2（微波场专用传感器）加热管材质石英管高温合金管刚玉管加热温度/℃120012001600管径(外径/内经X长度)/mm?45/?35×1200，可选配，最大外径?60mm加热速度（最高）≤200升温速率不限≤50恒温区长度标配恒温区长度10mm，恒温去长度10mm～1000mm以上可选温区可多温区同时加热气路法兰不锈钢法兰质量流量控制 美国Alicat质量流量控制器、 n标题:高精度镀膜仪108Auto和热蒸发镀膜机ETD-100AF价格库号：JX163573 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：仪器简介：型号682精密刻蚀镀膜仪（PECS?） 用于SEM、TEM和EM方面的精密刻蚀镀膜系统 PECS?是一台理想的具有斜面切割，样品刻蚀和离子溅射镀膜功能的仪器，其刻蚀和溅射镀膜系统中独一无二的离子束能够形成镀膜范围大、干净以及可视的样品满足扫描电镜（SEM），透射电镜（TEM）以及光学显微镜（LM）的需求。PECS?中独一无二的设计结构使其成为非常通用的仪器，可选配型号682.40000的斜面切割工具，它是用于切割横截面部分的独特工具。技术参数：规格： 离子源 离子枪 三个潘宁离子枪与微型稀土永磁体 离子束能量 1.0 KeV 到10.0 KeV 离子束直径 刻蚀枪 5mm FWHM；溅射枪 1mm FWHM 离子电流密度 峰 10mA/cm2 气体流量 氩气 0.1cc/分/枪 刻蚀范围 根据离子枪能量为7mm-10mm不等 刻蚀速率 10.0keV下，硅材料约10μm/小时，钨材料约3μm/小时 Airlock组装 样品载台 接纳1?英寸（31mm）金相套和多种SEM短截线 样本旋转速率 可变速率10标题:涂膜机和镀金镀碳仪EMS150R价格库号：JX163574 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提高低密度材料的对比度。为了将细晶的尺寸减小到最小程度，208HR提供了一系列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。208HR分子涡轮泵高真空系统提供宽范围的操作压力，可以对膜层的均匀性和一致性进行精确控制，并最大程度减小充电效应。高/低样品室的结构设计使靶材和样品之间的距离调节变得极为方便。MTM-20高分辨膜厚控制仪分辨率小于0.1nm，其作用是对所镀薄膜的厚度进行精确控制，它尤其适合场发射电镜对膜厚（0.5－3nm）的要求。 场发射扫描电镜镀膜推荐的靶材是：Pt/Pd：非导电样品镀膜的通用镀膜材料Cr：优良的半导体样品的镀膜材料Ir：优良的真正无细晶的镀膜材料208HR系统为得到最佳高分辨镀膜效果提供了多种配置选择，可配备标准的旋片泵或提供干净真空的无油涡旋式真空泵，标配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。一、主要特性· nbsp标题:真空镀膜仪和微波等离子体化学气相沉积炉WBMW-DLZ3价格库号：JX163575 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：热阻式蒸镀系统介绍矽碁热阻式蒸发系统是专为实验室科学研究开发设计，系统灵活，高度可定制化，可实现共蒸镀等功能。系统基本规格腔体真空度可达＜10-7Torr基板旋转速度可调全自动镀膜，工业级操作软件可同时控制多组蒸镀源，实现共蒸镀制程电脑即时监