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不同退火方式对0.7BiFeO3-0.3PbTiO3薄膜的铁电性能
第 26 卷 第 10 期 无 机 材 料 学 报 Vol. 26 No. 10
2011 年 10 月 Journal of Inorganic Materials Oct., 2011
收稿日期: 2010-12-08; 收到修改稿日期: 2011-01-17
基金项目: 国家自然科学基金 National Natural Science Foundation of China
作者简介: 李海敏(1978?), 女, 博士研究生. E-mail: lucialee@126.com
通讯作者: 朱建国, 教授. E-mail: nic0400@
文章编号: 1000-324X(2011)10-1053-05 DOI: 10.3724/SP.J.1077.2011.01053
不同退火方式对 0.7BiFeO3-0.3PbTiO3 薄膜的铁电性能
及漏电流的影响
李海敏, 郭红力, 李雪冬, 刘 果, 肖定全, 朱建国
(四川大学 材料科学与工程学院, 成都 610065)
摘 要: 利用溶胶?凝胶法在 LaNiO3/SiO2/Si 衬底上制备了 0.7BiFeO3-0.3PbTiO3(BFPT7030)薄膜, 研究了快速退火
及常规退火两种不同的后续退火处理方式对薄膜铁电性能及漏电流性能的影响. XRD 测试表明, 经快速退火处理
的 BFPT7030 薄膜结晶完好, 呈现出单一的钙钛矿相. SEM 测试结果显示, 经快速退火处理的 BFPT7030 薄膜结晶
充分, 但经常规退火处理的 BFPT7030 薄膜表面致密性较好, 且在升温速率为 2℃/min 时薄膜的晶粒更细小. 经快
速退火处理的 BFPT7030 薄膜的铁电性能较为优异, 在升温速率为 20℃/s 时, 其剩余极化 Pr 为 22 μC/cm2, 矫顽场
Ec 为 70 kV/cm, 并具有较小的漏电流. XPS 测试结果表明, 经常规退火处理的 BFPT7030 薄膜其铁离子的价态波动
较小.
关 键 词: 溶胶?凝胶; BiFeO3-PbTiO3; 薄膜; 快速退火; 常规退火
中图分类号: TQ12 文献标识码: A
Effects of Different Annealing Technique on the Ferroelectric and Leakage
Properties of 0.7BiFeO3-0.3PbTiO3 Thin Films
LI Hai-Min, GUO Hong-Li, LI Xue-Dong, LIU Guo, XIAO Ding-Quan, ZHU Jian-Guo
(College of Materials Science and Engineering, Sichuan University, Chengdu 610065, China)
Abstract: 0.7BiFeO3-0.3PbTiO3 (BFPT7030) thin films were prepared on LaNiO3/SiO2/Si substrates by Sol-Gel
process. The films were annealed by rapid thermal annealing technique (RTA) and conventional thermal annealing
(CTA) technique, respectively. XRD patterns of the films indicate that BFPT7030 films annealed by RTA show a
single perovskite phase and better crystallinity as suggested by stronger and sharper XRD peaks. SEM observations
demonstrate that BFPT7030 films annealed by RTA are fully crystallized, but films annealed by CTA have a dense
morphology and exhibits small grain size especially for film heated at rate of 2℃/min. Enhanced ferroelectric
properties are observed in th
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