循环料表面金属杂质精要.pptx

循环硅料清洗中的表面金属杂质 浙江昱辉阳光能源有限公司 郭江涛 陈双 蔚建勇 郑志东 主要内容 一、硅料清洗的目标及意义 二、硅料清洗的一般方法 三、取样与测试 四、结果与讨论 五、问题与展望 一、硅料清洗的目标及意义 去除或减少硅料表面沾污，包括金属杂质/颗粒/有机物污染； 将边皮料/锅底料等循环利用； 在保证员工安全/设备安全/环境安全的同时，确保硅料对生产过程影响最小； 提高拉晶/铸锭成品率，降低生产综合成本。 二、硅料清洗一般方法 酸腐蚀： 酸洗操作腐蚀硅料在规模生产中被普遍采用，主要用于去除金属离子和氧化层，尤其以HF+HNO3作为腐蚀液时，几乎可以处理硅料表面的大部分杂质，其反应方程式如下： 3Si + 4HNO3 = 3SiO2 + 4NO ↑ + 2H2O SiO2 + 6HF = H2SiF6 + 2H2O 总反应为：3Si + 4HNO3 + 18HF = 3H2SiF6 + 4NO ↑+ 8H2O 目前，对于硅与混酸反应的化学机理研究已比较深入，通过控制HF与HNO3的配比，实现不同温度下反应速度的调节。 HF-HNO3腐蚀速度的分析 HF和HNO3浓度比值的不同，对腐蚀速率影响最大。 当HF/HNO3=4.5及比值在其附近时，硅的腐蚀速度最大，溶液中HNO3和HF活性物质温度和扩散系数完全相等，硅的氧化和硅氧化物的溶解都立即发生，即腐蚀液成分相当于电化学反应的化学当量摩尔比时，腐蚀速率最快；通过加水或降低反应温度可减慢腐蚀速度，以便于生产中的操作控制。 酸腐蚀其他方法 据有关文献报道，硅与混酸反应后生成的氟硅酸在不同条件下铝、铁、锌、铜、镍、铅、锡、锑等金属及其合金都具有腐蚀作用，有利于硅料中金属杂质的去除。 可是，对于一些混酸处理效果不理想的杂质，如石墨、石英、个别金属离子等可采用HF酸或其他种类的强酸进行浸泡腐蚀。此时酸洗工艺一般包括以下两步： 根据不同硅料的情况配置相应的混合酸比例及选择酸的种类； 酸反应→超声清洗→纯水漂洗→纯水冲洗（酸洗到漂洗要注意控制时间避免氧化） 碱腐蚀： 硅片生产中，会产生硅锭的顶皮、边体和晶棒的头尾、边皮及切割后的残余，其表面在加工过程中残留了切割液、金属离子、指纹和附带杂质等，通常把这些料回收后循环再利用，在此过程中部分料需通过碱洗，发生以下化学反应： Si+2NaOH+H2O=Na2SiO3+2H2↑ SiO2+2NaOH =Na2SiO3++H2O 清洗过程为：碱洗腐蚀→过水冲洗→超声去残碱→超声漂洗，至于碱液配方，可以采用氢氧化钠，氢氧化钾等配制，并可以根据情况加缓蚀剂。 从循环料产生至清洗回用这个过程中要注意以下三个事项： 残余料产生到清洗时间尽量要短； 硅料尽量浸入溶液，不要裸露在空气中； 操作过程中应避免指纹留在硅料上。 循环料清洗注意事项 三、取样与测试 1、实验主要考察经混酸清洗前后，循环料表面金属杂质含量的变化及存在方式的差异，分析讨论循环料类型、表面形貌、金属杂质含量、金属杂质种类、前期处理等对清洗效果的影响； 2、测试样品均来自清洗车间正常混酸清洗工艺操作，本实验进行了大量的取样测试，目的之一也是对我司清洗工序进行综合评价；由于篇幅有限，文中所列几组数据为同时期、同一次测试得到的多晶边体料、中料、顶料以及单晶边皮料、反切料结果，目的是增加数据之间的可对比性，减少不确定因素的影响； 3、所用主要设备包括： ICP-MS，进行硅料表面金属杂质的检测； SEM，进行硅料腐蚀前后表面形貌的观察； 超声清洗设备等。 四、结果与讨论 不同循环料清洗前后，表面金属杂质含量的检测结果见表1。 表1 循环料清洗前后杂质含量 单位ppbw 项目 Mg Al Ti Cr Mn Fe Cu Zn Total 多晶A料洗后 1.26 1.9 0.24 0.45 / 38.05 / / 41.9 多晶A料洗前 22.92 27.45 0.96 8.48 1.72 369.98 34.56 10.79 476.86 多晶B料洗后 0.56 2.14 / 0.62 / 84 6.05 5.7 99.07 多晶B料洗前 44.84 19.74 0.61 7.85 1.03 277.09 37.42 12.18 400.76 多晶C料洗后 / 9.72 / 2.49 / 16.4 1.16 / 29.77 多晶C料洗前 33.29 22.87 0.23 4.25 2.19 341.82 15.34 14.08 434.07 单晶A料洗后 / 2.92 0.12 2.94 0.17 122.93 / / 129.08 单晶A料洗前 112.81 19.33 / 12.83 2.05 308.87 26