《材料結構分析》試卷答案5.doc

材料结构分析试题5（参考答案） 一、基本概念题（共8题，每题7分） 1．若X射线管的额定功率为1.5kW，在管电压为35kV时，容许的最大电流是多少？ 答：1.5kW/35kV=0.043A 2．证（）、（）、（）1）、（12）晶面属于[111]晶带。u+Kv+Lw=0计算 （）+0×1=1—1+0=0 （）+1×1=1—2+1=0 （×1+2×1+1×1=（—3）+2+1=0 （01）晶面：0×1+×1+1×1=0+（—1）+1=0 （12）晶面：1×1+×1+1×2=1+（—3）+2=0 因此，经上五个晶面属于[111]晶带。 3．当X射线在原子例上发射时，相邻原子散射线在某个方向上的波程差若不为波长的整数倍，则此方向上必然不存在放射，为什么？波程差为波长的整数倍不为波长的整数倍方向上必然不存在射已知Cu3Au为面心立方结构，可以以有序和无序两种结构存在，请画出其有序和无序结构[001]晶带的电子衍射花样，并标定出其指数。 6．（1）试说明电子束入射固体样品表面激发的主要信号、主要特点和用途。（2）扫描电镜的分辨率受哪些因素影响? 给出典型信号成像的分辨率，并说明原因。（3）二次电子（SE）信号主要用于分析样品表面形貌，说明其衬度形成原理。（4）用二次电子像和背散射电子像在显示表面形貌衬度时有何相同与不同之处? （1）背散射电子:能量高；来自样品表面几百nm深度范围；其产额随原子序数增大而增多.用作形貌分析、成分分析以及结构分析。 二次电子:能量较低；来自表层5－10nm深度范围；对样品表面状态十分敏感.不能进行成分分析.主要用于分析样品表面形貌。 吸收电子:其衬度恰好和SE或BE信号调制图像衬度相反;与背散射电子的衬度互补.吸收电子能产生原子序数衬度，即可用来进行定性的微区成分分析. 透射电子：透射电子信号由微区的厚度、成分和晶体结构决定.可进行微区成分分析. 特征X射线: 用特征值进行成分分析，来自样品较深的区域 俄歇电子: 各元素的俄歇电子能量值低；来自样品表面1－2nm范围。适合做表面分析. （2）影响因素:电子束束斑大小,检测信号类型,检测部位原子序数.信 号 二次电子 背散射电子 吸收电子 特征X射线 俄歇电子 分辨率 5～10 50～200 100～1000 100～1000 5～10 入射电子在被样品吸收或散射出样品表面之前将在这个体积中活动。 对轻元素，电子束与样品作用产生一个滴状作用体积。 AE和SE因其本身能量较低，平均自由和平度很短，因此， 俄歇电子的激发表层深度：0.5～2 nm， 激发二次电子的层深：5～10 nm，在这个浅层范围，入射电子不发生横向扩展，因此，AE和SE只能在与束斑直径相当的园柱体内被激发出来，因为束斑直径就是一个成象检测单元的大小，所以它们的分辨率就相当于束斑直径。 BE在较深的扩展体积内弹射出，其分辨率大为降低。 X射线在更深、更为扩展后的体积内激发，那么其分辨率比BE更低。 因为SE或AE信号的分辨率最高，因此，SEM的分辨率是指二次电子像的分辨率。 对重元素样品，作用体积为“半球状”，因此分辨率较低，BE和SE分辨率差明显变小。 （3）成像原理为：二次电子产额对微区表面的几何形状十分敏感。 如图所示，随入射束与试样表面法线夹角增大，二次电子产额增大。 因为电子束穿入样品激发二次电子的有效深度增加了，使表面5-10 nm作用体积内逸出表面的二次电子数量增多。 （4）都可用于表面形貌分析，但BE还可用于结构和成分分析 用BE进行形貌分析时，其分辨率远比SE像低。 BE能量高，以直线轨迹逸出样品表面，对于背向检测器的样品表面，因检测器无法收集到BE而变成一片阴影，因此，其图象衬度很强，衬度太大会失去细节的层次，不利于分析。因此，BE形貌分析效果远不及SE，故一般不用BE信号。何为偏离参量S？ 试分别画出s+g = s-g ，s+g = 0以及s+g 0时产生电子衍射的厄瓦尔德球构图。偏离矢量:偏离(θ时，倒易杆中心至爱瓦尔德球面交截点的距离下图为s = 0， s 0,s. 0三种情况下的爱瓦尔德球图。 请说明的一般衬度特征。 X射线的光束：都为单色的特征X射线，都有光栏调节光束。 不同：衍射仪法：采用一定发散度的入射线，且聚焦半径随2θ变化， 德拜法：通过进光管限制入射线的发散度。 试样形状：衍射仪法为平板状，德拜法为细圆柱状。 试样吸收：衍射仪法吸收时间短，德拜法吸收时间长，约为10~20h。 记录方式：衍射仪法采用计数率仪作图，与计算机连接可实现自动记录和衅谱处理，德拜法采用环带形底片成相，而且它们的强度（I）对（2θ）的分布（I-2θ曲线）也不同，衍射