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-*- Chapter 8 保护基团 Chapter 8 保护基团 保护 - 除保护 (protection-deprotection) ? 在有机合成上广泛应用. 缺点: 增加额外步骤 ? 产率降低 ! 为弥补这个缺点, 引 入或除去保护基团时, 应优先考虑高选择性, 高产率及易脱去的方法. 引入保护基, 应满足 : (1) 温和 / 容易地引入所要保护的分子; (2) 与被保护基形成的结构, 能经受所要发生的反应, 且不起反应; (3) 反应后, 可温和除去, 不损及分子其余部分, 且对反应物分子不起其他作用 (不会因空间效应而引起立体结构变化). §1 羟基的保护 一般: 将 ROH ? 醚类 ROR 或 酯类 ROCOR. 醚 对氧化剂或还原剂, 相当稳定, 是羟基保护的主要方法. 1. 形成甲醚类 R-O-CH3 (1) 保护基引入: ROH + OH- ? R- + +CH3 合成子(试剂: NaH /Me2SO4): (CH3)2SiI, CHCl3 NaH, (CH3)2SO4 ROH ROCH3 也可先作成银盐: RO-Ag+,并与 CH3I反应(可直接使用 Ag2O / MeI, 但: 30醇, 不宜用此法). 还可与重氮甲烷 CH2=N=N, 在 Lewis 酸( BF3 ?Et2O) 催化下, 形成甲醚 : ROH + CH2=N=N － BF3 ?Et2O催化 ? R-O-CH3 (2) 保护基除去 ? ROH: 加入Lewis 酸: BBr3 + Me3SiI 软硬酸碱原理 (hard-soft acids and bases principle): O与B或 Si 结合 (硬酸-硬碱); Br-或 I- 结合 –Me (软碱-软酸)? 除去 Me: 2. 形成叔丁基醚类 ROC(CH3)3 制备: 醇 + 异丁烯 － Lewis 酸催化? 叔丁基醚: 产物对 H+ 不稳定, 因为: 除去:叔丁基醚产物 －酸?　除去位阻大的叔丁基 . 适用范围: 炔丙基醇 / 甾族醇 / 甾族酚 颉氨酸 / 丝氨酸衍生物/ 酪氨酸等的 –OH 反应实例: 3. 形成苄醚 ROCH2Ph 制备: ROH + BrCH2Ph － 强碱? ROCH2Ph 脱除: 加 H2 , or Li 还原 ?　脱去 –CH2Ph ? ROH Li, NH3 NaH, PhCH2Br ROH ROCH2Ph 4. 形成三苯基甲醚 ROCPh3 H+ or H2 / Pd Ph3CCl, Py, DMAP ROH ROCPh3 催化剂: 4-二甲胺基吡啶(4-dimethylaminopyridine, DMAP) 有位阻的醇? 三苯甲基化? 慢 10醇 ? 三苯甲基化 ? 快! ∴ 可选择性保护位阻小的 -OH [三苯甲基 (trityl group): 基团巨大] 各种核苷 3 位或 5 位 ? 磷酰化成核苷酸: 常用三苯氯甲烷保护羟基 : 5. 形成甲氧基甲醚 ROCH2OCH3 TiCl4 or CF3COOH ClCH2OCH3, i-Pr2NC2H5 ROH ROCH2OCH3 ClCH2OCH3 : 甲氧基氯甲烷 i-Pr2NC2H5 : 30胺, 用于吸收产生的氨 强酸 or Lewis酸: 激烈条件 ? 脱去保护基. 6. 形成四氢吡喃 ROTHP 试剂: 3, 4-二氢吡喃 条件: H+催化加成 : 稳定性 : △ 产物不与亲核试剂 or 有机金属作用 △ 耐强碱 △ 强酸 or Lewis酸中, 不稳定, 易变. 缺点 : 增加了一个不对称的 C (缩酮上的 C 原子) eg. 手性醇 + 二氢吡喃 ? 引入另一个对称 中心?得到非对映体混合物?纯化 or 光 谱分析困难! 但是, 不妨碍 ROH羟基的保护作用! 其它反应法 : △温和条件(00C, 1h, 89%~100)? 二(三甲基硅烷基)硫酸酯催化 ? ROH ? 四氢吡喃基化(即使用丙烯基叔醇, 也不会重排). △ 1% HClO4 ? 吸附硅胶? 得到催化剂, 可将被保