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晶體完美性de鉴定
晶体完美性de鉴定
报告人:叶佳
测定晶体缺陷结构的重要
晶体中缺陷的种类、数量是鉴别晶体质量优劣的重要标志。
晶体的缺陷通常能够吸收、反射或散射晶体内部产生的或是由外部输入的磁、光、声和电能量,从而影响晶体的性能。
晶体中的缺陷按几何线度分类
体缺陷
面缺陷
线缺陷
点缺陷
测量结构欠完美性的方法
光学法
最早最有用的鉴定方法之一
透射电子显微术
昂贵分辨率高
X射线形貌术
包括最广泛使用的近代技术
扫描电子显微术
提供了一整套技术,对于半导体材料的研究有特殊意义
X射线形貌术分类
根据试样厚度t的多少来分类
当ut=1时,一般选择兰氏法
当ut1时,一般选择反常投射形貌术
u是所选用的单色X射线的先行吸收系数
兰氏法——最广泛使用的形貌术
晶体和胶片一起移动,用照片方法纪录的是经选择的直射或衍射光束强度的逐行扫描纪录图。。
完美晶体中的缺陷引起反射轻度的局部增加。在消光衬比条件下,当衍射光束来记录形貌图时,缺陷表现为一些强度比完美晶体背景更强的区域。
一颗宽约4毫米的天然金刚石的兰氏X射线形貌图
硅单晶纵断面的兰氏X射线形貌图
X射线形貌术适用于生长态的整体晶体,而起飞破坏性及其分辨率和可详细解释性已达可接受的水平,因此这种技术是一种最有价值的鉴定技术。
参考书
《晶体生长》
——中国建筑工业出版社
《晶体生长》
——科学出版社
《晶体生长技术》
——机械工业出版社
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