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四川大学 高分子科学与工程学院 陈军
表面处理=表面清洗+表面涂层
表面清洗(除油)
有机溶剂除油
煤油、汽油、苯类、酮类等
电化学除油
电解溶液
紫外线-臭氧清洗
有机污染物分子被紫外线激发或分解,和氧原子反应形成气体
等离子清洗
瞬间使有机污染物分子蒸发、气化或分解
表面涂层
电化学方法
电镀、氧化、
化学方法
化学转化膜处理、化学镀
热加工方法
热浸镀、热喷涂、热烫印、化学热处理、堆焊
沉积法
离子注入、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)
等离子体概念
等离子体是物质的第四态, 即电离了的“气体”, 它呈现出高度激发的不稳定态, 其中包括离子( 具有不同符号和电荷)、电子、原子和分子。
能 量
等离子体构成
由处于激发状态的粒子构成,粒子组成包括分子、原子、分子碎片、离子、基团、准分子等
气体
N2
O
H
Ar
He
C
Ti
F
电离能(eV)
15.8
12
13.5
15.8
24.6
11.3
6.8
17.4
各种气体的电离能
等离子体的形成
当物质受到外加能量(磁、电、热……) 作用, 原子中外层电子的势能急速下降, 最后脱离核场的束缚而逃逸到远处, 这就是通常我们所说的电离。此时, 原子变成为两个带电荷的粒子, 即负电荷的电子和正电荷的离子。
如果所有组成物质的分子或原子完全被电离成离子和电子, 就改变了原来的形态, 成为物质的等离子体态。
等离子的基元反应
电子碰撞反应
激发 e+A2→A?+e
解离 e+A2→2A+e
电离 e+A2→A2++2e
......
重离子间的非弹性碰撞
潘宁解离 M?+A2→2A+M
潘宁电离 M?+A2→A2++M+e
电荷转移 M+/-+A2→A2+/-+M
碰撞消除 M+A2-→A2+M+e
离子离子复合 M-+A2+→A2/2A+M
电子离子复合 e+A2+→2A
原子复合 2A+M→A2+M
原子加成 A+BC+M→ABC+M
......
非均相反应(s-固相)
原子复合 S-A+M→S+A2
亚稳态去激发 S+M?→S+M
原子剥夺 S-A+B→S+AB
溅射 S-A+M?→S?+A+M
光化学反应
RH+UV→R?+H?
RF+UV→R?+F?
氧低温等离子体化学反应
RH+O?→R1H+R2O?
→R? +OH?
R?+O2→ROO?
...........
光谱诊断系统
在线监测放电过程,
聚束喷射头
AirPlas-100低温等离子体平台
等离子应用
表面清洗
仪器设备
在氧气氛条件下,等离子束快速扫描材料表面时,其表面温度在瞬间可迅速升至有机物的热分解温度以上,在等离子环境中,有机物中的C、H等与氧反应,生成CO2、H2O等。
清洗条件:
O2气氛,固定喷头,
火焰长度:4mm
电源输出功率:4.0
清洗速度:25mm/s
清洗次数:1次
表面清洗-剪切强度关系
等离子扫描速度对剪切强度的影响
不同清洗条件对剪切强度的影响
金属表面的超细清洁
微电子机械系统(MEMS)领域应用
清洗
除去光刻胶,金属化前器件衬底清洗,电路粘片前清洗……
干法刻蚀
硅基太阳电池的表面纳米织构,微电子器件,高精度的衍射光学元件……
镀膜
等离子辅助沉积薄膜技术是在可控气氛, 即一般是在活性气氛中利用等离子体的高热焓特点进行材料合成, 最后沉积在基底上形成薄膜结构, 例如氧化物陶瓷超导薄膜、金刚石薄膜、CN 薄膜和Fe16N2非晶软磁薄膜及其它材料薄膜。
光谱诊断系统
在线监测放电过程,
AirP
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