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限制内部能量泄漏出内部区域 (主动屏蔽)
概述
屏蔽的含义:
3. 原理:
电子设备
用导电或导磁材料制成的屏蔽体将电磁干扰能量限制在一定范围内。
2. 目的:
防止外来的干扰能量进入某一区域(被动屏蔽)
二次场理论(一次场作用下,产生极化、磁化形成二次场);
反射衰减理论
屏 蔽
4. 屏蔽的分类(按工作原理)
电场屏蔽:静电屏蔽、低频交变电场屏蔽(利用良好接地
的金属导体制作)
磁场屏蔽:静磁屏蔽、低频交变磁场屏蔽(利用高导磁率
材料构成低磁阻通路)
电磁屏蔽:用于高频电磁场的屏蔽(利用反射和衰减来隔
离电磁场的耦合)
屏蔽效能( SE )
屏蔽效能:屏蔽体的性质的定量评价。
定义:
或
或
E0、H0 —— 未加屏蔽时空间中某点的电(磁)场;
E1、H1—— 加屏蔽后空间中该点的电(磁)场;
无屏蔽场强
有屏蔽场强
屏蔽效能 SE(dB)
10
1
20
100
1
40
1000
1
60
10000
1
80
100000
1
100
1000000
1
120
衰减量与屏蔽效能的关系
机箱类型
屏蔽效能 SE(dB)
民用产品
40以下
军用设备
60
TEMPEST设备
80
屏蔽室、屏蔽舱
100以上
屏蔽效能的要求
分类:静电屏蔽、低频交变电场屏蔽
电场屏蔽
静电屏蔽
电场屏蔽的作用:防止两个设备(元件、部件)间的电容性
耦合干扰
原理:静电平衡
要求:完整的屏蔽导体和良好接地
2. 低频交变电场屏蔽
目的:抑制低频电容性耦合干扰
(1)未加屏蔽
(2) 加屏蔽(忽略CSR1的影响)
分析方法:应用电路理论分析
讨论:(1)屏蔽体不接地,若
(2)屏蔽体接地
(3)屏蔽体接地时,CSR1的影响
屏蔽效能:
屏蔽体的材料以良导体为好,对厚度无什么要求
屏蔽体的形状对屏蔽效能有明显的影响
电场屏蔽的设计要点
屏蔽体要靠近受保护的设备
屏蔽体要有良好的接地
磁场屏蔽
1.原理
高频磁场屏蔽
低频磁场屏蔽(f 100kHz)
利用高导磁率的铁磁材料(如铁、硅钢片、坡莫合金),对干扰磁场进行分路。
利用低电阻的良导体中形成的涡电流产生反向磁通抑制入射磁场。
2.屏蔽效能计算
解析方法:圆柱腔、球壳的屏蔽效能计算
近似方法:应用磁路的方法。
如:长为l 、横截面为 S 的一段屏蔽材料,则其磁阻为
磁阻:
磁压降:
磁通:
(1) 圆柱形腔的磁屏蔽效能
边界条件:
时,
时,
解得:
故
,若t~0,即
则
屏蔽效能
球形腔体的屏蔽效能
非球形腔体的屏蔽效能
等效半径:
(V——屏蔽体的体积)
例:长方体屏蔽盒尺寸为: 、壁厚 。
试计算用钢板 和坡莫合金 作屏蔽
材料时的SE 。
解:
钢:
合金:
(2)用磁路方法计算屏蔽效能
流经屏蔽体的磁通:
流经空腔的磁通:
磁通为
磁路计算:
对于磁路CS:
从P1到Q1: 磁阻为
磁压降
从Q1 到 Q2:
故
对于磁路C1:
由于
于是有:
故
若
若
讨论:
屏蔽体应选用高导磁率的材料,但应防止磁饱和
被屏蔽物体不要紧贴在屏蔽体上
磁场屏蔽的设计要点
注意屏蔽体的结构设计,缝隙或长条通风孔循着磁场方向分布
对于强磁场的屏蔽可采用多层屏蔽,防止发生磁饱和
尽量缩短磁路长度,增加屏蔽体的截面积(厚度)
对于多层屏蔽,应注意磁路上的彼此绝缘
电磁屏蔽
1. 原理与分析方法
原理:
①表面反射(R— 反射损耗)
② 屏蔽材料吸收衰减(A— 吸收损耗)
③ 多次反射(B — 多次反射修正)
分析方法:
① 电磁感应原理.计算屏蔽体上的涡流的屏蔽效应来计算屏
蔽效能
② 平面波的反射与折射来计算反射与衰减
③ 等效传输线理论计算反射与衰减
2. 单层屏蔽体的屏蔽效能
均匀平面波垂直入射到无限大的导体板上(厚度为t)
媒质的本征阻抗:
传播常数:
屏蔽效能:
良导体 :
良导体:
波阻抗:
a. 远场:
b. 近场(以电场为主):
c. 近
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