以冷風浓缩设备重复回收光阻剂废液之可行性研究.pptVIP

以冷風濃縮設備重複回收光阻劑廢液之可行性研究 ;摘要;第一章 前言 ;在Array製程階段要達到節省材料持本支出，只有從三個方向著手：(1)減少光罩製程次數；(2)更新塗佈設備光阻塗佈方式；(3)使用再生光阻劑。 TFT-LCD面東Array段製程設備在四代廠以下，均是使用旋轉塗佈方式是將光阻劑均勻塗佈在玻璃基東之上，旋轉塗佈(Spin Coating)的製程原理，是利用旋轉玻璃基東之離心力甩開光阻劑，以達到塗佈之均勻度良好之特性。;依原生光阻劑之製造規格規範，光阻劑之含水率必頇低於0.5％以下，以TFT-LCD製程之特性，在黃光無塵環境對於光阻劑廢液所遭受到之污染相對較單純且輕微，但是無塵室之環境是控制在23℃溫度及50％濕度，且光阻劑廢液收集系統並無法避免不與外界環境接觸，如何將光阻劑廢液中之含水率去除或降低，是直接影響光阻劑廢液是否能夠回收再生之最主要因素;本研究探討TFT-LCD業使用後的光阻劑廢液的處理製程，而處理方法的選用頇考慮成本、技術與污染防治諸層面，回收的價值當然應高於投入成本，或是至少能夠減少材料成本支出。 藉由提升光阻劑廢液之再使用，除可促成降低原生光阻劑之採購數量，同時亦可減少光阻劑廢液之產出，減少光阻劑廢液之處理成本及大量清除處理費用支出。 ;本研究之目的： 一、 探討以冷風濃縮設備進行光阻劑廢液濃縮之可行 性。 二、 探討光阻劑廢液重複回收再使用