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19 4
第 卷 第 期 真空与低温
2013 12 Vacuum ＆ Cryogenics 195
年 月
衬底对CVD 生长石墨烯的影响研究
， ， ，
张 玮 满卫东 涂 昕 林晓棋
( ， 430073)
武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室 武汉
: ， 、 、 、 。
摘要 石墨烯有独特的结构和优异的性能 在电子 信息 能源 材料和生物医药等领域都有着广阔的应用前景
， 。 、
为了更好的应用这种新型材料 如何大规模可控合成高质量石墨烯是一个必须克服的困难 相比与机械剥离法 化
， (CVD)
学氧化还原法和碳化硅表面外延生长法 化学气相沉积法 因其可以生长大面积高质量连续石墨烯膜而倍受
。 ， ， CVD 。
关注 基于石墨烯的生长机理 从衬底材料的角度 综述了近几年衬底对 生长石墨烯的影响的研究进展 展望
了衬底选择的发展新趋势。
: ; ; ;
关键词 石墨烯 化学气相沉积 衬底 生长机理
中图分类号:O782 + ． 7 文献标志码:A 文章编号:1006 － 7086 (2013)04 － 0195 － 09
DOI :10 ． 3969 /j ． issn． 1006 － 7086． 2013． 04 ． 002
SUBSTＲATES FOＲ CVD GＲOWTH OF GＲAPHENE ＲESEAＲCH
ZHANG Wei ，MAN Wei-dong ，TU Xin ，LIN Xiao-qi
(Provincial Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials ，Wuhan Institute
of Technology ，Wuhan 430073 ，China)
Abstract :Graphene has a unique structure and excellent properties． It has broad application prospects in electronics ，infor-
mation ，energy ，materials and biomedicine and other fields． For a better application of this new material ，how large quality-
controlled synthesis of grapheme is a necessary overcome diffi
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