第二章功能薄膜[兼容模式]分解.pdfVIP

1 金属薄膜材料 Metal Film Materials 授课人：郑晓彤 材料科学与工程学院 材料先进技术教育部重点实验室 材料学院分析测试中心 联系方式：zhengxt@home.swjtu.edu.cn, 办公室：信息楼（0号）0101房间 金属薄膜材料-介绍 金属薄膜材料-介绍 金属薄膜材料-介绍 金属薄膜材料-介绍 金属薄膜材料-介绍 金属薄膜材料-介绍 金属薄膜材料-介绍 金属薄膜材料-介绍 金属薄膜材料-介绍 金属薄膜材料-介绍 金属薄膜材料-介绍 金属薄膜材料 ?薄膜材料的制备方法简介 ?金属薄膜材料的形成及结构 ?主要薄膜功能金属材料 第一节 薄膜材料制备方法简介 功能薄膜材料 1、物理气相沉积（PVD） 采用物理方法使物质的原子或分子逸出，然后沉积 在基片上形成薄膜的工艺 根据使物质的逸出方法不同，可分为蒸镀、溅射和 离镀离子镀 （1）真空蒸镀 把待镀的基片置于真空室内，通过加热使蒸发材 料气化（或升华）而沉积到某一温度基片的表面上 ， 从而形成一层薄膜，这一工艺称为真空蒸镀法 蒸发源可分为：电阻加热、电子束加热和激光加热等 第一节 薄膜材料制备方法简介 功能薄膜材料 （2）溅射（Sputtering） 当具有一定能量的粒子轰击固体表面时，固 体表面的原子就会得到粒子的一部分能量 ，当 获得能量足以克服周围原子得束缚时，就会从 表面逸出，这种现象成为“溅射” 它可分为离子束溅射和磁控溅射 第一节 薄膜材料制备方法简介 功能薄膜材料 离子束溅射 它由离子源、离子引出极 和沉积室3大部分组成， 在高真空或超高真空中溅 射镀膜法。利用直流或高 频电场使惰性气体（通常 为氩）发生电离，产生辉 光放电等离子体，电离产 生的正离子和电子高速轰 击靶材，使靶材上的原子 或分子溅射出来，然后沉 图616.1 离子束溅射工 积到基板上形成薄膜。 作原理图 第一节 薄膜材料制备方法简介 功能薄膜材料 离子束溅射 离子束溅射沉积法除可以精确地控制离子束的能量、密度和入射角度 来调整纳米薄膜的微观形成过程，溅射过程中的基片温度较低外还有以 下优点： ①可制备多种纳米金属，包括高熔点和低熔点金属，而常规的热蒸发 只能适用于低熔点金属； ② 能制备多组元的化合物纳米微粒，如Al52Ti48，Cu91Mn9及ZrO2等； ③通过加大被溅射的阴极表面可提高纳米微粒的获得量。 Lawrence Livemore国家实验室的Bwbee等人利用真空溅射技术制成了 层状交替金属复合材料。该技术是经氩离子将金属表面的原子激发出来 ，并沉积成层状。只要控制离子束交替冲击不同金属表面，就可以制成 由几百、几千层不同金属组成的复合材料，每一层只有0.2nm厚。 第一节 薄膜材料制备方法简介 功能薄膜材料 磁控溅射 在正交的电磁场的作 在被溅射的靶极（阳 用下，电子以摆线的 极）与阴极之间加一 方式沿着靶表面前进， 个正 交磁场和 电场， 电子的运动被限制在 电场和磁场方向相互 一定空间内，增加了 垂直。当镀膜室真空 同工作气体分子的碰 抽到设定值时，充入