基于胶束插层方法制备高热稳定性和大层间距有机化蒙脱土探究.pdfVIP

基于胶束插层方法制备高热稳定性和大层间距有机化蒙脱土探究.pdf

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中国科学: 化学 2010 年 第 40 卷 第 12 期: 1829 ~ 1836 SCIENTIA SINICA Chimica 《中国科学》杂志社 SCIENCE CHINA PRESS 论 文 基于胶束插层方法制备高热稳定性和大层间距 有机化蒙脱土 闰明涛*, 王增坤 河北大学化学与环境科学学院; 河北省分析科学与技术重点实验室, 保定 071002 *通讯作者, E-mail: lhbx@ 收稿日期: 2009-11-25; 接受日期: 2009-12-19; 网络版发布日期: 2010-09-14 摘要 采用不同方法制备了多种有机化蒙脱土, 并分别采用 X 射线衍射仪、红外光谱分析 仪、热重分析仪、电感耦合等离子体发射光谱仪、元素分析仪、扫描电子显微镜对产物进行 了表征, 并提出了有机物插层新方式—— 胶束插层. 结果表明: 适量钠基蒙脱土(Na-MMT)、 十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)和磷酸三苯酯(TPP)在丙酮/水的混合溶剂中进行溶液插层, 得 到的有机化蒙脱土具有更大的层间距, 比单纯采用 CTAB 的插层效果显著. 产物中含有约 21.54%的 CTAB和 17.47±1.05%的 TPP, 插层机理为 CTAB-TPP胶束插层. 该有机化蒙脱土的 初始热降解温度比单纯CTAB插层蒙脱土最多提高了 17.4 ℃. 采用该方法制备的改性蒙脱土 既可以进一步提高蒙脱土的层间距, 又可以封闭 TPP于 MMT的片层间, 阻止 TPP挥发; 同时 克服季铵盐改性蒙脱土的热稳定性低的问题, 得到了层间距大、热稳定性高的有机化蒙脱土, 为有机化蒙脱土在高熔点聚合物改性方面提供了条件. 关键词 钠基蒙脱土 磷酸三苯酯 胶束插层 热降解 X 射线衍射 1 引言 蒙脱土(MMT)是主要成分为氧化硅和氧化铝的 片层结构, 每个片层尺寸约为 100 nm × 100 nm, 片 层间距约为 1 nm, 是一种天然纳米材料. 它具有纳 米材料特性、无机物的刚性、尺寸稳定性、热稳定性, 与聚合物共混后可以较大幅度地提高材料的力学性 能、阻隔性能、热稳定性等. 但天然蒙脱土的层间距 太小以及其亲水、疏油性使得它与聚合物的相容性、 分散性不好, 制约了其优良性能的表现, 影响了其更 广泛的应用. 因此, MMT 的有机化插层改性成为了 化学化工领域重要的研究方向之一[1]. 目前, 有机改 性剂主要有有机季铵盐[2~4]、氨基酸[5, 6]、聚合物单 体[7~9]、偶联剂[10, 11]、茂金属[12]、有机酸[13, 14]等几种, 不但可以提高蒙脱土的层间距, 而且能够增加蒙脱 土与聚合物的相容性 , 进而提高聚合物材料的性 能 [15~19]. 其 中 在 工 业 中 较 广 泛 应 用 的 有 机 化 MMT(OMMT)是采用季铵盐插层改性, 层间距可以 由 1.3 nm 增加到 2 nm 左右, 此类 OMMT 存在两个 方面的问题: 首先, 由于蒙脱土中的季铵盐的热稳定 性较低, 在较高加工温度下会分解并促进聚合物降 解[20], 因此该类 OMMT 适用于共混改性部分具有较 低的加工成型温度的聚合物, 而若用于改性高熔点 聚合物, 季铵盐的分解会对材料的性能产生不利的 影响; 其次, 较小的层间距使 OMMT 在与聚合物共 混时不易形成剥离型片层, 不利于更好地体现其优 良性能. 因此, 寻找高热稳定性的有机物全部代替或 者部分取代季铵盐用于改性蒙脱土, 并进一步增大 层间距, 成为科学家和工业界的迫切要求[21~25]. 磷酸三苯酯(TPP)是一种体型分子, 具有较高的 闰明涛等: 基于胶束插层方法制备高热稳定性和大层间距有机化蒙脱土 1830 热稳定性, 作为一种性价比优异的含磷阻燃剂, 已被 广泛应用于磷系阻燃体系中. 然而 TPP 在较高的温 度下易挥发 , 减弱了阻燃效果 [26]. 若将 TPP 插入 MMT 中, 一方面由于 TPP 的分子体积较大, 不但可 以加大层间距, 而且大层间距的 OMMT 在与聚合物 共混时可能形成更多的剥离型纳米片层, 更有利于 提高复合材料的某些性能; 另一方面, OMMT 可以封 闭 TPP 于片层间 , 阻止 TPP 挥发 , 而且得到的 OMMT 将具有较高的热稳定性, 可以用于改性部分 高熔点聚合物. 但是, TPP 不具有能与 Na-MMT 进行离子交换 的离子基团, 因此, 我们考虑采用既能够与 TPP 相 容而且具有可交换离子的化学试剂, 如 CTAB, 与 TPP 共同插层 MMT, 探索 CTAB-TPP 改性 MMT 的 方法和插层

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