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PCB 生产工艺及其基本知识;什么是PCB
PCB 全称printed circuit board,是在覆铜板上贴上干膜,经曝光显影、蚀刻形成导电线路图形在电子产品起到电流导通与信号传送的作用,是电子原器件的载体.;
1.早于1903年Mr. Albert Hanson(阿尔伯特·汉森)首创利用“线路”(Circuit)观念应用于电话交换系统上。它是用金属箔切割成线路导体,将之粘于石蜡纸上,上面同样粘上一层石蜡纸,成了现今PCB的构造雏形。如下图:
2. 到1936年,Dr.Paul Eisner(保罗·艾斯纳)真正发明了PCB的制作技术,也发表多项专利。而今天的加工工艺“图形转移技术(photoimage transfer) ,就是沿袭其发明而来的。 ;
PCB在基板材料、层数、制程上的多样化以适合不同的电子产品及其特殊需求。因此其种类划分比较多,以下就归纳一些通用的区别办法,来简单介绍PCB的分类以及它的制造工???。
A. 以基板材料分
a. 有机材料
酚醛树脂、玻璃纤维/环氧树脂、聚酰亚胺、BT树脂等皆属之。
b. 无机材料
铝基板、铜基板、陶瓷基板等皆属之,主要取其散热功能。
B. 以成品软硬区分
a. 硬板 Rigid PCB
b. 软板 Flexible Printed Circuit,柔性电路板,即FPC
c. 软硬结合板 Rigid-Flex Printed Circuit
C. 以结构分
a. 单面板
b. 双面板
c. 多层板(2/4/6/8/10/12层等);单面板;PCB制程;主要作用:
多层板内层板间的粘结、调节板厚,
由树脂和玻璃纤维布组成。
主要特点:
一定温度与压力作用下,树脂流动并发生固化
不同的型号,其固化厚度不一致,以用来调节不同板厚
存放环境:
恒温、恒湿;主要作用:
多层板顶、底层形成导线的基铜材料,使用PP将其与其它层粘结。
主要特点:
一定温度与压力作用下,与半固化片结合
12um、18um、35um、70um、105um等厚度
存放环境:
恒温、恒湿
;4.覆铜板;5.底片
底片上面有单层线路或阻焊的图案,用于在对线路板干膜曝光时起遮挡作用。曝光显影后干膜上留下与底片上相对应的图案。;二、PCB生产流程介绍;A、内层线路流程介绍;内层线路--开料介绍;前处理(PRETREAT):
目的:
去除铜面上的污染物,增加铜面粗糙度,以利於后续的压膜制程
主要消耗物料:磨刷
;压膜(LAMINATION):
目的:
将经处理之基板铜面透过热压方式贴上抗蚀干膜
主要生产物料:干膜(Dry Film)
工艺原理:
;曝光(EXPOSURE):
目的:
经光线照射作用将原始底片上的图像转移到感光底板上
主要生产工具: 底片/菲林(film)
工艺原理:
白色透光部分发生光聚合反应, 黑色部分则因不透光,不发生反应,显影时发生反应的部分不能被溶解掉而保留在板面上。;显影(DEVELOPING):
目的:
用弱碱液作用将未发生化学反应之干膜部分冲掉
主要生产物料:K2CO3或Na2CO3
工艺原理:
使用将未发生聚合反应之干膜冲掉,对应位置铜箔露出。而发生聚合反应之干膜则保留在板面上作为蚀刻时之抗蚀保护层。
说明:
水溶性干膜主要是由于其组成中含有机酸根,会与弱碱反应使成为有机酸的盐类,可被水溶解掉,显露出图形;蚀刻(ETCHING):
目的:
利用药液将显影后露出的铜蚀掉,形成内层线路图形
主要生产物料:蚀刻药液(CuCl2)
CuCl2中Cu2+有氧化性,跟板面铜反应生成Cu+。
反应如下:Cu+CuCl2=Cu2Cl2
Cu2Cl2不溶于水,但有过量的Cl-存在时,可以发生络合反应:
Cu2Cl2+4Cl- = 2 (CuCl3)2-;去膜(STRIP):
目的:
利用强碱将保护铜面之抗蚀层(反应后的干膜)剥掉,露出线路图形
主要生产物料:NaOH;冲孔:
目的:
利用CCD对位冲出检验作业之定位孔及铆钉孔
主要生产物料:钻刀
;AOI检验:
全称为Automatic Optical Inspection,自动光学检测
目的:
通过光学反射原理将图像回馈至设备处理,与设定的逻辑判断原则或资料图形相比较,找出缺点位置
注意事項:
由于AOI所用的测试方式为逻辑比较,一定会存在一些误判的缺点,故需通过人工加以确认。
; 经AOI检测后不良的板子,送至“找点”机台,设备会自动将放大镜
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