9气相法(新)分解.pptVIP

第9章 气相法;气相法制备超细粉体; 气相合成必须具备以下五个基本要素：①气源，可以是固态或液态的蒸发源，亦可以是气态的反应剂；②热源；③气氛；④工艺参数监控系统；⑤粉体的收集系统。 气相法合成超细粉体的特点是产品纯度高，分散性良好，颗粒粒径分布窄，粒径小。;9.1 低压气体中蒸发法(气体冷凝法);惰性气体蒸发-冷凝装置示意图;金属粒子蒸发装置;加热方式;惰性气体凝聚原位加压法;原位加压法;原位加压法的发展方向;原位加压法的的优缺点;9.2 流动液面上真空蒸发法(VEROS);流动液面上真空蒸发法装置示意图;9.3 溅射法(SIM);溅射法制备薄膜：利用荷能粒子轰击靶材表面，从靶面上溅射出粒子。粒子飞行到对面的衬底上沉积得到薄膜。通过这种方法可以制备出与靶材相同的化合物薄膜，也可以在反应室中充入反应气体，使溅射粒子与反应气反应形成新的化合物如氮化物，氧化物等。;9.4 化学气相沉积法CVD; CVD 已经在微电子材料领域获得广泛的应用，同时也是合成各种功能性涂层和超细颗粒的实用技术。CVD 作为新材料的合成技术，具有四大特征，即多功能性，可制成多种类型多种形态的产品，其生产规模既适用于小批量生产，也适用于大批量生产。适用对象极广，产品具有高纯性，工艺过程可实现精密的控制和调节，并且能实现原子层之间界面的控制。同时也能从相同的原料体