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材料分析方法第2部分
材料分析方法;
;特点:;Al合金中晶界析出相形态;Al-Mg合金的拉伸断口;;
;;;;;;;;
;ZAF校正:阻挡校正因子fs,背散射校正fb,吸收校正因子fa和荧光校正因子fF皆考虑材料本身对分析结果的影响,统称为基质校正。
其中,背散射校正因子和阻挡校正因子为原子序数Z的函数,二者可以合并,fsfb =fz。此时, 基质校正M= fsfbfafF=f(ZAF),称之为ZAF校正。即原子序数校正、吸收校正和荧光校正。
ZAF校正已经实现程序化。;;;;;;3.4 应用;Al-Zn-Mg-Cu合金相变分析
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