光电产氢进展答辩.pptVIP

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——杨超;碳原子;;常见的几种半导体;研究进展;第一代光催化材料的研究主要围绕TiO2展开,重点研究光解水反应机理, 以及如何拓宽TiO2的应用范围。 第二代光催化材料的研发是通过元素掺杂等改性方法拓宽其光谱响应范围, 同时寻找TiO2的替代材料,如WO3,SrTiO3等。 第三代光催化材料的研发是利用能带工程调控半导体导带与价带,将可见 光响应的光催化反应效率提高。 ;1、第一代共催化复合体系主要研究贵金属-半导体如将Pt、Au等助 催化剂沉积到光催化剂表面,极大加快了H2的生成反应。 2、第二代技术主要构建半导体-半导体复合纳米结构,不同半导体 接触界面可形成“结”,在结的两侧由于其能带结构等性质的不同, 导致形成空间电势差。这种电势差的存在有利于电子-空穴的分离。 ;光解水制氢反应与光催化材料的表面性质密切相关,最近10???来,通过 调控光催化材料表面形貌,制备低维纳米结构,提高光解水制氢的效率。;研究现状;Keywords:Hole-storge-layer,Charge-transport,Ta3N5 photoanode, Oxygen evolution,Photoelectrodes,Spectroscopy,Photovoltage;It denoted that the Ni(OH)x/Fh bilayer is served as a more efficient HSL for hole transport and storage ;;;Complex 1:(Co4O4(O2CMe)4(CNpy)4); ;;参考文献

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