硅片制绒和清洗.pptVIP

硅片制绒和清洗;概述;硅片表面的机械损伤层（一）硅锭的铸造过程;硅片表面的机械损伤层（二）多线切割;硅片表面的机械损伤层（三）机械损伤层;粗抛;1.1 什么是制绒 制绒是利用硅的各向异性腐蚀特性在表面刻出类似与金字塔或者是蜂窝状的结构 ;1.2制备绒面的目的： 利用陷光原理，减少光的反射率，提高短路电流（Isc），增加PN结的面积，最终提高电池的光电转换效率。 陷光原理： 当光入射到一定角度的斜面，光会反射到另一角度的斜面，形成二次或者多次吸收，从而增加吸收率。;陷光原理图示：;1.3 制绒的分类： ?? 碱制绒：Si+2NaOH+H2O →Na2SiO3 +2H2 ↑ ?? 酸制绒：HNO3+Si=SiO2+NOx+H2O ?? SiO2+ HF=SiF4+H2O ?? SiF4+HF=H2[SiF6];碱的腐蚀 利用低浓度碱溶液对晶体硅在不同晶体取向上具有不同腐蚀速率的各向异性腐蚀特性，在硅片表面腐蚀形成角锥体密布的表面形貌 ，就称为表面织构化，俗称制绒。角锥体四面全是由〈111〉面包围形成。 反应式为： Si+2NaOH+H2O →Na2SiO3 +2H2 ↑ ;制绒过程中的影响因素;制绒液中的异丙醇、NaOH、硅酸纳三者浓度比例决定着溶液的腐蚀速率和角锥体形成情况。 溶液温度恒定在80℃时发现腐蚀液NaOH浓度在1.5～4%范围之外将会破坏角锥体的几何形状 。 当NaOH处于合适范围内时，异丙醇的浓度的上升会使腐蚀速率大幅度下降。;维持制绒液中IPA的含量为10 vol%，温度85 ℃，时间30分钟条件下： ;绒面的平均反射率随NaOH浓度的变化 ;降低硅片表面张力，减少气泡在硅片表面的粘附，使硅 片的金字塔更加均匀一致 气泡的直径、密度和腐蚀反应的速率限定了硅片表面织构的几何特征。气泡的大小以及在硅片表面停留的时间，与溶液的粘度、表面张力有关系。所以需要异丙醇来调节溶液的粘滞特性。 ;?? 制绒温度范围：75-81℃ ?? 温度过低：反应速度慢 ?? 温度过高：IPA将完全挥发加剧，晶面择优性降低; 经过去除损伤层后，硅片表面留下了许多肤浅的准方形的腐蚀坑。1分钟后，金字塔如雨后春笋，零星的冒出了头；5分钟后，硅片表面基本上被小金???塔覆盖，少数已开始长大。我们称绒面形成初期的这种变化为金字塔“成核”。10分钟后，金字塔密布的绒面已经形成，只是大小不均匀，反射率也降到了比较低的水平。随着时间的延长，金字塔向外扩张兼并，体积逐渐膨胀，尺寸趋于均等。 ;不同制绒时间的图片;不同制绒时间绒面反射率的比较;槽体密封程度、异丙醇的挥发程度;硅酸钠的影响;HCL的作用 中和残留在硅片表面的碱液 ??去除在硅片切割时表面引入的金属杂质 ??注：盐酸具有酸和络合剂的双重作用，氯离子能 与Fe 3+、Pt 2+、Au 3+、Ag +、Cu +、Cd 2+、Hg 2+等金属离子形成可溶于水的络合物;HF 的作用 去除在清洗过程中表面形成SiO2层，便于脱水 ?? 注：硅的疏水性要好于SiO2;制绒常见不良现象;现象：在同一批片子中相同 位置有类似于油污的污渍 原因：来料问题，可能在硅片包装时引入 解决方法：与硅片厂商协商解决;现象:表面发白 原因：腐蚀时间不够 解决方法：通常延长刻蚀时间可以解决;现象：表面发亮 原因：NaOH过量或者是腐蚀时间过长 解决方法：适当降低 碱液的用量及制绒时间;注意事项