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移相掩模应用技术 贾海强　张玉清　张慕义　李　岚 ( 信息产业部电子第十三研究所, 石家庄 050051) 　　摘要　一种用于大栅宽器件的移相掩模 应用技术是将移相器边缘线用作不透明 掩模, 以代替铬图 形。利用此移相掩模技术, 制作了特征线长为 0. 15Lm 的微细栅条和大栅宽器件。 关键词　亚半微米　移相掩模 Phase-Shifting Mask Application Technology Jia Haiqiang , Zhang Yuqing , Zhang M uyi, Li Lan ( Th e 13th I nstitute, M inistry of I I , S hj iaz huang 050051) 　　Abstract　We hav e introduced a phase-shifting mask technolog y w hich can be