光助芬顿法降解印制电路板脱膜废液.PDF

第 27卷 第 5期 重 庆 建 筑 大 学 学 报 V01．27 No．5 2005年 10月 Journal Chongqingof Jianzhu University Oct．2005 光助 芬 顿 法 降解 印制 电路 板 脱 膜 废 液 郭新起 ， 金奇庭 ， 王艳芳 ， 孙长顺 ， 薛 峰2 (1．西安建筑科技大学 环境 与市政工程学院 ，西安 710055；2．总后 勤部 建筑工程研究所 ，西安 710032) 摘 要 ：研究表 明 ，采用 UV／Fenton均 相 光 催 化 氧 化 体 系降 解 印 制 电路 板 脱 膜 废 液 效 果好 。 在 H2o2用量 为 1倍 理 论 药 量 ，Fe“： H2O2(摩尔 比 )=1：20，光照 时 间 为 80rain，脱膜 废 液 COD 去 除 率 可 达 80％ 。 光 助 芬 顿 体 系 降 解 脱 膜 废 液 的 诸 多 影 响 因 素 中 ，重-~e性次 序 依 次 为 H：O 投 药 比 FeSO／H2O2的 比 值 光 照 时 间 。 关键 词 ：UV／Fenton；均相光 催化 ；脱膜废 液 中图分 类号 ：X703．1 文献 标识 码 ：A 文章 编 号 ：1006—7329(2005)05一OO91—05 Degradation ofPCB Waste Stripping Liquid Using UV／Fenton GUOXin—chao ，JIN Qi—ting ，WANGYan—fang ，SUNChang—shun ，XUE feng2 (1．SchoolEnviron．＆ of Munic．Eng．，Xib．nUniv．of Architee．Techn．，Xi 710055，P．R．China；2．Architechtural Engi． neering Research Institute，GLD of PLA，XiInstitute，GLD Research of neering 710032，P．R．China) Abstract：The study shows that there will be a good effect to degrade printed circuit board(PCB)waste circuit printed degrade strip— to effect goodbea will Abstract：Thethere that shows study pingliquid using UV／Fenton homogeneous photochemical catalysis system．The removal rate of COD could reach 80％ theat conditions with double dose H2of O2，1：20 mol Fe“ofratio ：H2O2 and 80min hydraulic re． tention time(HRT)．In all influential factors the H2 O2 dosing ratio is the most important by order，thenby foUows important most the is ratio dosing O2 H2 the time(HRT)．In factors tention influential all the ofratio FeSO4／H2O2，and the last at illumination time． Keywords：UV／Fenton；homogeneous photochemical catalysis；PCB waste stripping liquid 印制电路板(printedboard，简称 circuit PCB)生产废水中有机污染物的主要来源是脱膜 、显影等废 液 ，通常 COD浓度高达000 20mg／L以上 ，