光助芬顿法降解印制电路板脱膜废液.PDFVIP

第 27卷 第 5期 重 庆 建 筑 大 学 学 报 V01．27 No．5 2005年 10月 Journal Chongqingof Jianzhu University Oct．2005 光助 芬 顿 法 降解 印制 电路 板 脱 膜 废 液 郭新起 ， 金奇庭 ， 王艳芳 ， 孙长顺 ， 薛 峰2 (1．西安建筑科技大学 环境 与市政工程学院 ，西安 710055；2．总后 勤部 建筑工程研究所 ，西安 710032) 摘 要 ：研究表 明 ，采用 UV／Fenton均 相 光 催 化 氧 化 体 系降 解 印 制 电路 板 脱 膜 废 液 效 果好 。 在 H2o2用量 为 1倍 理 论 药 量 ，Fe“： H2O2(摩尔 比 )=1：20，光照 时 间 为 80rain，脱膜 废 液 COD 去 除 率 可 达 80％ 。 光 助 芬 顿 体 系 降 解 脱 膜 废 液 的 诸