12表面方法概论探析.pptVIP

表面分析方法概论;一、概述;“表面”的概念;表面分析方法的特点;探测粒子;探测粒子;二、 X射线光电子能谱（XPS）;1、基本原理;对于固体样品，X射线能量用于： 内层电子跃迁到费米能级，即克服该电子的结合能Eb； 电子由费米能级进入真空成为静止电子，即克服功函数? ； 自由电子的动能Ek 。 则 h?＝ Eb＋ Ek ＋ ?;当样品置于仪器中的样品架上时，样品与仪器样品架材料之间将产生接触电势 ，这是由于二者的功函数不同所致，若??‘，则：V = ? - ? 此电势将加速电子的运动， ?使自由电子的动能从Ek增加到Ek Ek ＋ ?＝ Ek ＋ ? h?＝ Eb＋ Ek ＋ ? Eb ＝ h? －Ek － ? 式中?‘是仪器的功函数，是一定值，约为4eV， h?为实验时选用的X射线能量为已知，通过精确测量光电子的动能Ek’ ，即能计算出Eb 。;各种原子、分子轨道的电子结合能是一定的，据此可鉴别各种原子和分子，即可进行定性分析。 光电子能谱的谱线常以被激发电子所在能级来表示，如K层激发出来的电子称为1s光电子，L层激发出来的光电子分别记为2s,2p1/2,2p3/2电子等等。表列出了光电子能谱中常用的标准谱线。 X射线光电子能谱的有效探测深度，对于金属和金属氧化物是0.5～2.5nm,对有机物和聚合材料一般是4～10nm。;2、XPS的应用;表面污染分析 由于对各个元素在XPS中都会有各自的特征光谱，如果表面存在C、O或其它污染物质，会在所分析的物质XPS光谱中显示出来，加上XPS表面灵敏性，就可以对表面清洁程度有个大致的了解； 如图是Zr样品的XPS图谱，可以看出表面存在C、O、Ar等杂质污染。;化学位移上的应用 不同的化学环境导致核外层电子结合能的不同，这在XPS中表现为谱峰的变化，通过测量谱峰位置的移动多少及结合半峰宽，可以估计其氧化态及配位原子数； 如图是Cu的XPS光电子能谱图，显示了不同氧化态Cu的谱峰精细结构，可以看出，不同氧化态的铜，其谱峰位置、形状及半峰宽都有明显的变化。;三、 扫描隧道显微镜（STM）和原子力显微镜（AFM）;1、引言;不同类型的SPM主要是针尖特性及其相应针尖－样品间相互作用的不同，包括： 扫描探针显微镜（STM) 原子力显微镜（AFM) 摩擦力显微镜（LFM) 磁力显微镜（MFM) 扫描近场光学显微镜（SNOM) 弹道电子发射显微镜（BEEM);SPM对样品表面各类微观起伏特别敏感，即具有优异的纵向分辨本领，其横向分辨率也优于透射电镜及场离子显微镜。各种显微镜的主要性能指标如下表：;显微镜类 型;2、扫描隧道显微镜（STM);基本原理;STM就是根据上述原理而设计的。工作时，首先在被观察样品和针尖之间施加一个电压，调整二者之间的距离使之产生隧道电流，隧道电流表征样品表面和针尖处原子的电子波重叠程度，在一定程度上反映样品表面的高低起伏轮廓。;STM工作模式;恒高度模式（CHI）：针尖在表面扫描，直接探测隧道电流，再将其转化为表面形状的图象。它仅适用于表面非常平滑的材料。;STM应用;3、原子力显微镜（AFM);原子力显微镜与TEM、SEM相比有明显不同，它用一个 微小的探针来“摸索”微观世界，AFM超越了光和电子波 长对显微镜分辨率的限制，在立体三维上观察物质的形 貌，并能获得探针与样品相互作用的信息。典型AFM的 侧向分辨率（X,Y方向）可达到2nm，垂直分辨率（Z方 向）小于0.1nm，AFM具有操作容易，样品制备简单、 操作环境不受限制、分辨率高等优点。;当针尖接近样品时，针尖受到力的作用使悬臂发生偏转或振幅改变，悬臂的这种变化经检测系统检测后转变成电信号传递给反馈系统和成像系统，记录扫描过程中一系列探针变化就可以获得样品表面信 息图像。;（1）探针（probe）;接触模式的探针 Si、 Si3N4 102~10-2 N/m 10 kHz;（2）、AFM基本成像模式; 针尖始终同样品接触并在表面滑动，针尖－样品间的相互作用力是两者互相接触的原子中电子间存在的库仑排斥力，其大小通常为10－8～10－11 N，AFM中样品表面形貌图象通常是采用这种排斥力模式获得的。 接触式通常可产生稳定、高分辨图象，但对于低弹性模量样品，针尖的移动以及针尖－表面间的粘附力有可能使样品产生相当大的变形并对针尖产生较大的损害，从而在图象数据中可能产生假象。;B、非接触式（noncontact mode)： 针尖在样品表面的上方振动，始终不与样品表面 接触，针尖探测器检测的是范德华吸引力和静电力等对成象样品没有破坏的长程作用力； 非接触模式可增加显微镜的灵敏度，但分辨率要比接触模式低，且实际操作比较困难。;C、