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机电助理工程师职称论文综述
PAGE \* ROMAN \* MERGEFORMATIII
机电助理工程师职称论文
（浅析机电技术在真空磁控溅射镀膜设备上的应用）
——蒋攀
成都巨峰玻璃有限公司（157厂）
2016年8月
目录
TOC \h \z \t 标题 3,1,标题 4,2,标题 5,3,标题 6,4 HYPERLINK \l _Toc458621521 摘要 PAGEREF _Toc458621521 \h 1
HYPERLINK \l _Toc458621522 1 机电技术简概 PAGEREF _Toc458621522 \h 2
HYPERLINK \l _Toc458621523 2 真空磁控溅射镀膜原理及其特点 PAGEREF _Toc458621523 \h 2
HYPERLINK \l _Toc458621524 2.1 真空磁控溅射镀膜原理 PAGEREF _Toc458621524 \h 2
HYPERLINK \l _Toc458621525 2.2 真空磁控溅射镀膜特点 PAGEREF _Toc458621525 \h 2
HYPERLINK \l _Toc458621526 3 真空磁控溅射镀膜设备 PAGEREF _Toc458621526 \h 3
HYPERLINK \l _Toc458621527 3.1 机械部分 PAGEREF _Toc458621527 \h 3
HYPERLINK \l _Toc458621528 3.1.1 真空室 PAGEREF _Toc458621528 \h 3
HYPERLINK \l _Toc458621529 3.1.1.1 壳体 PAGEREF _Toc458621529 \h 3
HYPERLINK \l _Toc458621530 3.1.1.2 真空室门 PAGEREF _Toc458621530 \h 3
HYPERLINK \l _Toc458621531 3.1.1.3 真空室冷却套 PAGEREF _Toc458621531 \h 4
HYPERLINK \l _Toc458621532 3.1.2 磁控溅射靶 PAGEREF _Toc458621532 \h 4
HYPERLINK \l _Toc458621533 3.1.2.1 磁场强度 PAGEREF _Toc458621533 \h 4
HYPERLINK \l _Toc458621534 3.1.2.2 磁场均匀性 PAGEREF _Toc458621534 \h 5
HYPERLINK \l _Toc458621535 3.1.2.3 磁控溅射靶的水冷系统 PAGEREF _Toc458621535 \h 5
HYPERLINK \l _Toc458621536 3.1.3 工作架 PAGEREF _Toc458621536 \h 5
HYPERLINK \l _Toc458621537 3.1.3.1 摩擦传动工作架 PAGEREF _Toc458621537 \h 5
HYPERLINK \l _Toc458621538 3.1.3.2 齿轮传动工作架 PAGEREF _Toc458621538 \h 5
HYPERLINK \l _Toc458621539 3.1.4 充气布气系统 PAGEREF _Toc458621539 \h 5
HYPERLINK \l _Toc458621540 3.1.4.1 充气布气管路 PAGEREF _Toc458621540 \h 6
HYPERLINK \l _Toc458621541 3.1.4.2 充气布气的控制 PAGEREF _Toc458621541 \h 6
HYPERLINK \l _Toc458621542 3.1.5 真空系统 PAGEREF _Toc458621542 \h 6
HYPERLINK \l _Toc458621543 3.1.5.1 典型真空系统 PAGEREF _Toc458621543 \h 6
HYPERLINK \l _Toc458621544 3.1.6 加热系统 PAGEREF _Toc458621544 \h 6
HYPERLINK \l _Toc45862154
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