露光(黄光)制程介绍.pptVIP

微影製程簡介(黃光)Photolithigraphy;;光阻吸收光譜;壓膜;Dry Film製作優勢;光阻(Photo resist)種類介紹;光罩/底片;底片製作說明-----RD、繪圖必知;底片發包專用術語-----RD、繪圖必知;乾膜保存期限;壓膜條件與注意事項;*;曝光波長;*;*;*;*;曝光條件與注意事項;曝光均勻度 參考;*;顯影條件與注意事項;將光阻曝光後形成的酸性物質去除， 留下圖形所需要的光阻。;將銀膠曝光後形成的酸性物質去除， 留下圖形所需要的線路。;1.印刷:印刷膜厚5um(不可透光) 2.軟烤:溫度100度C、時間 3.曝光:曝光能量、曝光均勻度 4.顯影:濃度、溫度、速度、噴壓 5.硬烤:溫度、時間