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台積電浸潤式顯影功臣 林本堅：22奈米製程從天空找靈感 台積電（2330）將於 2007年 9月正式投入 45奈米製程量產！這是台積電首次以自行創發、 與設備商共同開發的浸潤式微顯影設備投產的製程技術，也距離創發人、台積電資深處長 林本堅提出這構想足足將近 5年之久。從夢想初生到美夢成真，除了印證半導體界的共同 努力之外，林本堅的執著及他對科技有如宗教般堅定不移的信仰支撐，絕對是一大功臣。 台積電採用 193波長曝光設備，量產 45奈米製程，這套設備之所以引人矚目，在於不同 以往的「乾式」製程，而是「濕式」機台。過去乾式曝光顯影是在無塵室中，以空氣為媒 介進行，透過光罩在晶圓上顯影；而浸潤式微影則是以水為透鏡，在晶圓與光源間注入純 水，波長光束透過「水」為中介，會縮短成更短波長，得以刻出更精密晶片。就是這項發 明，讓半導體的摩爾定律得以朝 45奈米製程之後沿續。 時間回溯到 2002年，林本堅受邀參加一場國際光電學會技術研討會，會中他發表這項發 現，語驚四座，因為當時的半導體設備商多研發焦點放在如何延續乾式機台的生命，並已 耗費數十億美元進行開發。林本堅的理論無疑是在業界投出一顆炸彈，但經過他無數研討 會努力奔走、尋找與設備商合作，最後，台積電在 2004年與 ASML共同完成開發全球第 一台浸潤式微影機台，讓業界在震驚之餘也刮目相看。 如今，浸潤式顯影不但是英特爾（Intel）等半導體龍頭、設備商所認定的跨入 45奈米製 程之後的解決方案，也已正式納入國際半導體藍圖架構成為主流。回顧過去林本堅提出的 「一滴水」理論，過了 5年，台積電終於將在 2007年下半正式用來量產。林本堅的「微 物」論改變的半導體技術的進展，也改變由晶片所驅動的世界，現在的他，則投入 22奈 米製程之後設備研究，不同的是，這次靈感來自「天空」。 林本堅說，22 奈米製程之後多重直接式電子束（E-Beam Direct Write）將是最佳解決方案， 他說，航太工程的演進給了他許多靈感，他巧妙地比喻，現在許多設備商投入的 EUV設 備就像是太空梭一樣成本太昂貴，又不適合載客，E-Beam就是向不需要飛行跑道的直昇 機，可以直接空降在晶圓上，靈巧又符合成本效益。看來「一沙一世界、一奈米一宇宙」 這句話用在他身上再洽當也不過了。 張忠謀的愛將林本堅讓台積電在未來八年技術領先 未來半導體發展關卡在微影技術，全球專精此技術的不超過十人，林本堅是其中排名很前面的一位， 他的一九三奈米浸潤式微影，改寫了全世界半導體的微影藍圖。 「就是這個光！」台積電微製像技術發展處資深處長林本堅，一生都在追求心目中最理想 的光，他利用(光)波長的變化，不斷改寫半導體的歷史。 十一月初，台積電正式啟用全世界第一台一九三奈米「浸潤式微影技術」(Immersion Lithography)機台，正式跨入六十五奈米線寬世代的生產。這項技術的突破讓將台積電 足以一口氣跳躍成長三個技術世代，也讓全世界半導體產業把這項技術列為今後六十五、 四十五及三十二奈米線寬製程的主流。也就是說，台積電在二○一二年前都將保有這項技 術領先的位置。 十月初，美國《新聞週刊》才以「浸潤在水裡的晶片」為題，指出台積電利用浸潤式技術， 晉升至一線晶片製造商行列，令台積電設計能力足夠和ＩＢＭ及英特爾等半導體廠商並駕 齊驅。美林證券亞太區半導體首席分析師何浩銘(Daniel Heyler)更表示，台積電走在晶 片產業的最前線。 去年七月，台積電董事長張忠謀為鼓勵創新，頒發「創新獎」給研發有功人員，排名第一 的林本堅，因為這項讓台積電奈米技術三級跳的成就「拿了一大筆獎金」。獎金有多高？ 林本堅神秘地笑說無法透露，但已足以說明張忠謀對他的器重。 林本堅很小就展現對光學的興趣，十三歲母親將一台老式六Ｘ九相機送給他，他利用相機 的成像原理，把它改成一台放大機，「我把父親的照片放上去，又弄一個玻璃片，畫了鬍 子，兩張疊在一起，就合成出爸爸長鬍子的照片。」他呵呵笑出來，眼神閃出年少神采， 口音裡流露出一股綿軟柔細的越南尾韻。 六Ｘ九相機 開啟光學少年的探索興趣 他出生於越南，在西貢附近的堤岸市長大，家境優渥。父親是當地英文中學校長，外祖父 是船商，他在越南受過完整的華僑教育。高三那年，他獨立一人遠渡來台就讀新竹中學， 隔年考上台大電機系。台大電機時代，林本堅特別著迷結合物理和數學的電磁波學，後來 他到美國俄亥俄州立大學投入於當時新興雷射研究。到他攻讀博士，全像學(Holography， 雷射光立體攝影術)當紅，他站在這股浪潮上，一頭栽入。全像學可以將三度空間裡每一 點的資料錄下來，包括能完整保存光的繞射(diffraction)所有資訊，他以全像